[發明專利]一種雙層膜超導整流器件的制備方法

無效

• 申請號: 201210046184.6
• 申請日: 2012-02-27
• 公開（公告）號: CN102586740A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 張媛;劉仁娟;李培剛;沈靜琴;崔燦;唐為華
• 申請（專利權）人: 浙江理工大學
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28;C23C14/06;C23C14/58
• 代理公司: 浙江英普律師事務所 33238
• 代理人: 陳小良

1.一種雙層膜超導整流器件的制備方法，其特征在于包括如下步驟：

(1)首先采用單面拋光的單晶SrTiO₃(001)為襯底，并超聲清洗干凈，自然晾干；

(2)利用脈沖激光沉積技術，在PLD球型脈沖激光沉積鍍膜系統中，沉積氣氛為O₂，依次將具有兩種成分的超導薄膜分別沉積到SrTiO₃的拋光面上制備成雙層薄膜結構；靶材分別為：La_1.8Sr_0.2CuO₄和La_1.9Sr_0.1CuO₄；

(3)然后將雙層薄膜的一半保護起來，采用HNO₃溶液，腐蝕上層薄膜，使產品表面形成兩種不同成分薄膜的臺階結構。

2.根據權利要求1所述的一種雙層膜超導整流器件的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)中用脈沖激光沉積鍍膜系統制備薄膜時，參數激光能量為700mJ-900mJ，襯底溫度為630℃-670℃，靶基距為50mm-60mm。

3.根據權利要求2所述的一種雙層膜超導整流器件的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)中用脈沖激光沉積鍍膜系統制備薄膜時，參數激光能量為800mJ，襯底溫度為650℃，靶基距為55mm。

4.根據權利要求1所述的一種雙層膜超導整流器件的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)中的沉積速率為5nm/min。

5.根據權利要求1所述的一種雙層膜超導整流器件的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)中形成La_1.9Sr_0.1CuO₄/La_1.8Sr_0.2CuO₄超導雙層膜，上層與下層薄膜厚度相差100nm-130nm，上層薄膜比下層薄膜的厚度大。

6.根據權利要求1所述的一種雙層膜超導整流器件的制備方法，其特征在于，所述步驟(3)中的HNO₃溶液是質量濃度為0.5％的HNO₃溶液，腐蝕時間為40min以內。