[發(fā)明專利]一種光刻曝光劑量的控制裝置及控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210046182.7
• 申請日: 2012-02-27
• 公開（公告）號: CN103293864A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 羅聞;孫智超
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種光刻曝光劑量的控制裝置，包括光源、可動刀片及鏡頭組，三者依次排列，其特征在于，所述光刻曝光劑量的控制裝置還包括一設(shè)置在上述三者的光路中的可變衰減裝置，所述可變衰減裝置上排列設(shè)有若干通孔，所述若干通孔沿所述可變衰減裝置的運動方向逐漸變化，當(dāng)所述光源光強一定時，通過改變所述可變衰減裝置自身的位置或角度使所述可變衰減裝置的衰減率均勻變化，對所述光刻曝光劑量作補償。

2.如權(quán)利要求1所述的光刻曝光劑量的控制裝置，其特征在于，所述可變衰減裝置的位置和角度通過伺服裝置控制。

3.如權(quán)利要求1所述的光刻曝光劑量的控制裝置，其特征在于，所述可變衰減裝置通過旋轉(zhuǎn)實現(xiàn)透過率的均勻變化。

4.如權(quán)利要求3所述的光刻曝光劑量的控制裝置，其特征在于，所述可變衰減裝置為設(shè)有所述若干通孔的扇形板，所述扇形板的圓心處設(shè)有驅(qū)動轉(zhuǎn)軸。

5.如權(quán)利要求1所述的光刻曝光劑量的控制裝置，其特征在于，所述可變衰減裝置通過直線運動實現(xiàn)透過率的均勻變化。

6.如權(quán)利要求5所述的光刻曝光劑量的控制裝置，其特征在于，所述可變衰減裝置為設(shè)有所述若干通孔的矩形板。

7.如權(quán)利要求1所述的光刻曝光劑量的控制裝置，其特征在于，所述可動刀片在掃描曝光過程中能夠打開或關(guān)閉。

8.如權(quán)利要求1所述的光刻曝光劑量的控制裝置，其特征在于，所述光源是一個光源或多個光源。

9.一種光刻曝光劑量控制方法，其特征在于，采用如權(quán)利要求1～8中任意一項所述的光刻曝光劑量的控制裝置，包括如下步驟：

A.離線標(biāo)定，記錄可動刀片在位置Xi時正確劑量下的可變衰減裝置衰減率Yi，對應(yīng)到可變衰減裝置的伺服位置Zi，離散采樣個數(shù)為n，i＝1～n；

B.確定可變衰減裝置的運動曲線，通過可動刀片的運動曲線與A步驟離線標(biāo)定的對應(yīng)可變衰減裝置的伺服位置的關(guān)系，確定可變衰減裝置的運動曲線；

C.執(zhí)行掃描，實際掃描運動開始，可動刀片做規(guī)定的掃描運動，可變衰減裝置按照B步驟確定的曲線運動；

D.參數(shù)判斷，判斷可動刀片運動曲線是否發(fā)生改變，光功率是否發(fā)生改變，如果有一個及以上參數(shù)發(fā)生變化則執(zhí)行A步驟，如果沒有任何參數(shù)發(fā)生變化則執(zhí)行C步驟。