[發明專利]一種在導電玻璃基板表面制備Tb摻雜BiFeO3鐵電薄膜的方法無效
| 申請號: | 201210045961.5 | 申請日: | 2012-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN102633443A | 公開(公告)日: | 2012-08-15 |
| 發明(設計)人: | 談國強;薛旭 | 申請(專利權)人: | 陜西科技大學 |
| 主分類號: | C03C17/34 | 分類號: | C03C17/34 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 田洲 |
| 地址: | 710021 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 導電 玻璃 表面 制備 tb 摻雜 bifeo sub 薄膜 方法 | ||
技術領域
本發明屬于功能材料領域,涉及在功能化的導電玻璃基板表面制備Tb摻雜的BiFeO3薄膜的方法。?
背景技術
近年來,BiFeO3作為一種新型的鐵磁電材料,引起了人們極大的興趣。BiFeO3具有三方扭曲的簡單鈣鈦礦結構,室溫下同時具有鐵電有序(TC=810℃)和G型反鐵磁有序(TN=380℃),是少數幾種單相多鐵材料之一。BiFeO3磁電耦在信息存儲、自旋電子器件方面,磁傳感器以及電容-電感一體化器件等方面都有著極其重要的應用前景。?
一直限制鐵酸鉍材料應用的問題在于:鐵酸鉍材料的介電常數較低,室溫下很難觀察到大的剩余極化值,尤其是多晶的鐵酸鉍材料;鐵酸鉍材料的漏導較大,很難得到飽和的電滯回線。?
發明內容
本發明的目的在于提供一種在導電玻璃基板表面制備Tb摻雜BiFeO3鐵電薄膜的方法,該方法得到BiFeO3薄膜具有較大剩余極化值、飽和電滯回線。?
為實現上述目的,本發明采用如下技術方案:?
一種在導電玻璃基板表面制備Tb摻雜BiFeO3鐵電薄膜的方法,包括以下步驟:?
步驟1:將FTO導電玻璃基板表面清洗干凈;?
步驟2:將FTO導電玻璃基板置于紫外光照射儀中照射,使基片表面達到?原子清潔度;?
步驟3:將Fe(NO3)3·9H2O、Bi(NO3)3·5H2O和Tb(NO3)3·5H2O按摩爾比1∶(1-x)∶x溶于乙二醇甲醚和冰醋酸的混合液中,攪拌均勻后得到穩定的BiFeO3前驅體;金屬離子的濃度為0.3~0.9mol/L;其中0<x≤0.15,混合液中乙二醇甲醚和冰醋酸的體積比3∶1~2∶1;?
步驟4:采用旋涂法在FTO導電玻璃基片表面旋涂BiFeO3前驅體制備薄膜,勻膠結束后,然后預退火、退火晶化得到晶態Tb摻雜BiFeO3鐵電薄膜。?
本發明進一步的改進在于:步驟1中采用洗滌劑、丙酮、乙醇進行超聲波清洗,每次超聲波清洗后用蒸餾水沖洗,最后用氮氣吹干。?
本發明進一步的改進在于:步驟3中所得前驅液中金屬離子的濃度為0.3~0.9mol/L。?
本發明進一步的改進在于:步驟4中勻膠速度為3000~6000r/min,勻膠時間為15s。?
本發明進一步的改進在于:步驟4中預退火的溫度為350℃,時間為5min;退火晶化的溫度為500~600℃,時間為20~30min。?
本發明進一步的改進在于:步驟4中重復旋涂制膜、預退火、退火晶化的步驟直到得到期望厚度的Tb摻雜BiFeO3鐵電薄膜。?
本發明進一步的改進在于:步驟2中將FTO導電玻璃基板置于紫外光照射儀中照射40min,使基片表面達到原子清潔度。?
本發明進一步的改進在于:步驟3中前驅液磁力攪拌0.5h得到穩定的BiFeO3前驅體。?
本發明進一步的改進在于:0.05≤x≤0.15。?
相對于現有技術,本發明具有以下優點:本發明利用溶膠凝膠法制備摻Tb?的鐵酸鉍薄膜;本發明的有益效果是通過簡單的工藝,要求較低的實驗條件,得到具有較大剩余極化值、飽和電滯回線的BiFeO3薄膜,剩余極化值能夠提升至55μC/cm2左右并且通過控制摻雜量的變化,可以得到不同性能的BiFeO3薄膜。?
本發明通過Tb元素對于A位Bi元素的摻雜取代,可使晶格發生扭曲變形,使鐵酸鉍結構不對稱性加劇,將獲得較大的剩余極化值,并且用化學穩定性更好的Tb代替Bi,有利于抑制Bi的揮發。?
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