[發(fā)明專利]稀土離子摻雜稀土氟氧化物的晶體硅太陽能電池結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210045780.2 | 申請日: | 2012-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN103296120A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 梁海;程先華;孫洪濤;王傳英;宋宇;雷子恒 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江啟鑫新能源科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/055 | 分類號: | H01L31/055 |
| 代理公司: | 上海旭誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31220 | 代理人: | 鄭立 |
| 地址: | 315700 浙江省寧*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 稀土 離子 摻雜 氧化物 晶體 太陽能電池 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種稀土離子摻雜稀土氟氧化物的晶體硅太陽能電池結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:依次自下而上相互疊加的背電極(1)、銀鋁漿薄膜(2)、P型晶體硅層(3)、N型晶體硅層(4)、減反射膜(5)、稀土離子摻雜稀土氟氧化物膜(6)、正電極(7);
所述背電極為條形鋁電極;
所述稀土離子摻雜稀土氟氧化物膜中稀土氟氧化物為稀土氧化物與稀土氟化物在800~900℃反應(yīng)制得;
其中,所述稀土離子為Nd3+、Yb3+、Pr3+、Ho3+、Er3+中的一種或幾種,所述的稀土氧化物為Nd2O3、Yb2O3、Pr2O3、Ho2O3、Er2O3中的一種或幾種;
所述稀土氟化物為LaF3、YF3、LiYF4、NaYF4、K2YF5、BaYF5或BaY2F;
所述正電極為銀柵電極。
2.如權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽能電池結(jié)構(gòu),其特征在于,所述背電極的厚度為10-20μm、寬度為2-3mm。
3.如權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽能電池結(jié)構(gòu),其特征在于,所述銀鋁漿薄膜厚度為15-20μm。
4.如權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽能電池結(jié)構(gòu),其特征在于,所述P型晶體硅層為摻雜硼的單晶硅或多晶硅。
5.如權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽能電池結(jié)構(gòu),其特征在于,所述N型晶體硅層為摻雜磷的單晶硅或多晶硅。
6.如權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽能電池結(jié)構(gòu),其特征在于,所述減反射膜為氮化硅或氧化硅,所述減反射膜的膜厚為70nm。
7.如權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽能電池結(jié)構(gòu),其特征在于,所述稀土離子摻雜稀土氟氧化物膜的激發(fā)光波長大于1100nm,發(fā)射光波長在可見光范圍內(nèi)。
8.如權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽能電池結(jié)構(gòu),其特征在于,所述正電極的主線厚度為10-20μm、寬度為2-3mm,柵線厚度為10-20μm、寬度為50μm。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





