[發(fā)明專利]一種應(yīng)用于光伏透明導(dǎo)電玻璃的電磁磁控濺射法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210043957.5 | 申請日: | 2012-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN103290375A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周文彬;劉幼海;劉吉人 | 申請(專利權(quán))人: | 吉富新能源科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 201707 上海市青*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 應(yīng)用于 透明 導(dǎo)電 玻璃 電磁 磁控濺射 | ||
1.一種應(yīng)用于光伏透明導(dǎo)電玻璃的電磁磁控濺射法,該玻璃基板放入真空環(huán)境中并加熱,該靶源永久磁鐵外圍設(shè)有4組環(huán)繞的高電流電磁場,而形成電磁磁場以拉伸等離子體放電區(qū),以濺射出具高動能氧化物粒子,又該氧化物粒子沉積披覆于玻璃基板上;同時玻璃基板完全浸入拉伸的等離子體區(qū)內(nèi),而使氧化物粒子在玻璃基板形成結(jié)晶,且藉由該電磁磁場,其帶電粒子具有比一般磁場更高動能,同時又可藉由調(diào)整電流的方式調(diào)控電磁磁場大小,進(jìn)而可增加玻璃基板成膜速度及易于形成排列組合整齊之結(jié)晶結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1項所述之一種應(yīng)用于光伏透明導(dǎo)電玻璃的電磁磁控濺射法,其中該氧化物靶源可為氧化物靶材。
3.根據(jù)權(quán)利要求第1項所述之一種應(yīng)用于光伏透明導(dǎo)電玻璃的電磁磁控濺射法,其中該加熱溫度為100℃~150℃。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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