[發明專利]孔徑調節器件、孔徑調節方法及成像裝置和圖像顯示裝置在審
| 申請號: | 201210043912.8 | 申請日: | 2012-02-24 |
| 公開(公告)號: | CN102879899A | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發明(設計)人: | 張鐘賢 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G02B26/02 | 分類號: | G02B26/02;G02B3/14;H04N5/225 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 張波 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 孔徑 調節 器件 方法 成像 裝置 圖像 顯示裝置 | ||
1.一種孔徑調節器件,包括:
腔室,形成流體在其中移動的空間;
第一流體和第二流體,所述第一流體和所述第二流體不彼此混合并且所述第一流體和所述第二流體中的一個是光透射流體而另一個是光阻擋或光吸收流體,所述第一流體和所述第二流體設置在所述腔室中;和
第一電極單元,設置在所述腔室的內側表面上并包括一個或多個電極,電壓施加到所述電極上以在所述腔室中形成電場;
其中光通過其透射的孔徑通過由所述電場引起的所述第一流體與所述第二流體之間的界面位置的改變來調節。
2.根據權利要求1所述的孔徑調節器件,其中所述第一流體和所述第二流體中的一個是液體金屬或極性液體,另一個是氣體或非極性液體。
3.根據權利要求1所述的孔徑調節器件,其中所述腔室的區域包括:
通道區,相應于所述孔徑根據所述界面位置的改變而調節的范圍;和
儲存區,存儲根據所述界面位置的改變而從所述通道區移動的流體。
4.根據權利要求3所述的孔徑調節器件,其中所述腔室包括:
第一基板,所述第一電極單元設置在該第一基板上;
第二基板,面對所述第一基板并沿第一方向與所述第一基板分開;和
阻擋壁,設置在所述第一基板上并沿不同于所述第一方向的第二方向與所述第二基板分開。
5.根據權利要求4所述的孔徑調節器件,其中所述阻擋壁沿所述第一基板的邊界圍繞所述第二基板的側部。
6.根據權利要求4所述的孔徑調節器件,還包括第二電極單元,所述第二電極單元包括位于所述第二基板上的一個或多個電極以面對所述第一電極單元。
7.根據權利要求4所述的孔徑調節器件,其中所述第二基板具有在中心部分的通孔。
8.根據權利要求7所述的孔徑調節器件,其中在所述第一流體和所述第二流體之中,所述光透射流體設置在所述通道區的中心部分上以沿所述通孔流動,所述光阻擋或光吸收流體設置在所述通道區的側部上。
9.根據權利要求7所述的孔徑調節器件,其中所述第一電極單元包括多個環形電極。
10.根據權利要求1所述的孔徑調節器件,其中所述腔室的區域包括:
第一通道;和
第二通道,在所述第一通道的上部上連接到所述第一通道;
其中所述孔徑的范圍通過所述第一通道與所述第二通道的每個中的所述第一流體與所述第二流體之間的界面位置的改變來限定,
其中所述第一通道和所述第二通道形成通道區。
11.根據權利要求10所述的孔徑調節器件,其中所述第二通道的高度等于或大于所述第一通道的高度。
12.根據權利要求10所述的孔徑調節器件,其中所述腔室包括:
第一基板,所述第一電極設置在該第一基板上;
第二基板,面對所述第一基板并沿預定方向與所述第一基板分開;
第三基板,面對所述第二基板并沿所述預定方向與所述第二基板分開;和
阻擋壁,至少圍繞形成在所述第一基板與所述第三基板之間的空間的一側并與所述第二基板分開。
13.根據權利要求12所述的孔徑調節器件,其中所述阻擋壁沿所述第一基板的邊界和所述第三基板的邊界圍繞所述第二基板。
14.根據權利要求13所述的孔徑調節器件,其中通孔形成在所述第二基板的中心部分中。
15.根據權利要求14所述的孔徑調節器件,其中在所述第一流體和所述第二流體當中,所述光透射流體設置在所述通道區的中心部分上以沿所述通孔流動,所述光阻擋或光吸收流體設置在所述通道區的側部上。
16.根據權利要求10所述的孔徑調節器件,其中所述第一通道包括:
第一基板,所述第一電極單元形成在該第一基板上;
第二基板,與所述第一基板分開并包括在中心部分中的第一通孔和在外圍部分中的第二通孔;和
第一間隔物,設置在所述第一基板與所述第二基板之間用于形成內部空間。
17.根據權利要求16所述的孔徑調節器件,其中所述第二通道由所述第二基板、與所述第二基板分開的第三基板和設置在所述第二基板與所述第三基板之間用于形成內部空間的第二間隔物形成。
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