[發明專利]一種LED芯片無效
| 申請號: | 201210043026.5 | 申請日: | 2012-02-24 |
| 公開(公告)號: | CN102569585A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發明(設計)人: | 余麗 | 申請(專利權)人: | 余麗 |
| 主分類號: | H01L33/38 | 分類號: | H01L33/38;H01L33/62;H01L33/20 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 led 芯片 | ||
技術領域
本發明涉及一種LED芯片,尤其是涉及一種倒裝結構的LED芯片。
背景技術
在藍寶石襯底上制作的藍、綠或紫光LED芯片的發光面為外延材料的生長表面,即P型表面。在LED的封裝過程中,都把藍寶石襯底面直接固定在散熱板上。在LED的工作過程中,其發光區是器件發熱的根源。由于藍寶石襯底本身是一種絕緣體材料,且導熱性能和GaN材料比較差,所以對這種正裝的LED器件其工作電流都有一定的限制,以確保LED的發光效率和工作壽命。為改善器件的散熱性能,人們設計了一種LED芯片結構,即倒裝結構的LED芯片。
自從提出芯片的倒裝設計之后,人們針對其可行性進行了大量的研究和探索。由于LED芯片設計的局限性,封裝良率一直很低,原因如下:第一、N型電極區域相對小,很難與PCB板的相應區域對位;第二、N型電極位置比P型電極位置高很多,很容易造成虛焊、脫焊情形;第三、為制作N型電極,往往要人為地去掉很大一部分有源區,這樣大大地減少了器件的發光面積,直接影響了LED發光效率。
如圖1所示,利用MOCVD、VPE、MBE或LPE技術在襯底30上生長器件(如LED、LD等)結構,從上至下依次分別為襯底30、N型材料層31、發光區32、P型材料層33、P型電極34、P級焊錫層35、PCB板36以及散熱板40。其中N型材料層31與散熱板40之間還依次連接N型電極37、N級焊錫層38和PCB板39。
該傳統的LED芯片存在的技術缺陷如下:
1、在水平方向N型電極37所處位置與P型電極34相距較遠,N型電極37對其下方的PCB板27的位置設計有苛刻的要求,影響到封裝優良率。
2、N型電極37位置比P型電極34位置高很多,導致其與下方的PCB板39之間的間隙較大,在焊錫時很容易使得N級焊錫層38過長而造成虛焊或脫焊的發生。
3、為了使得N型電極37與其下方的PCB板39可以進行焊接,需要去掉很大一部分發光區,影響到LED芯片的發光效率。
發明內容
本發明設計了一種LED芯片,其解決了以下技術問題是:
(1)N型電極區域相對小,很難與PCB板的相應區域對位,會影響到封裝效果和LED產品的優良率;
(2)N型電極位置比P型電極位置高很多,很容易造成虛焊、脫焊情形;
(3)為制作N型電極,往往要人為地去掉很大一部分有源區,這樣大大地減少了器件的發光面積,直接影響了LED發光效率。
為了解決上述存在的技術問題,本發明采用了以下方案:
一種LED芯片,包括P型電極區(17)和N型電極區(18),所述P型電極區(17)從下至上依次包括襯底(1)、緩沖層(2)、N型層(3)、N型分別限制層(4)、發光區層(5)、P型分別限制層(6)、P型層(7)、P型歐姆接觸層(8)、光反射層(9)以及絕緣介質膜(13),所述N型電極區(18)從下至上依次包括襯底(1)、緩沖層(2)、N型層(3)以及絕緣介質膜(13),P型電極(21)下端穿過所述絕緣介質膜(13)與光反射層(9)連接,P型電極(21)上端與第一PCB板(24)連接,所述襯底(1)由上凹孔結構(26)和下凹孔結構(27)組合而成。所述N型電極(22)為階梯結構;所述N型電極(22)的下端穿過所述絕緣介質膜(13)與所述N型層(3)連接;所述N型電極(22)的中間部分貼在垂直部分的絕緣介質膜(13)上;所述N型電極(22)的上端位于最上方絕緣介質膜(13)之上并且向P型電極(21)的位置延伸,所述N型電極(22)的上端與第二PCB板(23)連接,所述N型電極(22)的上端與P型電極(21)存在相同高度的或近似高度的共同錫焊面。
進一步,所述上凹孔結構(26)的各個凹孔直徑大于都所述下凹孔結構(27)各個凹孔的直徑。
進一步,所述P型電極(21)上端通過焊錫與第一PCB板(24)進行固定。
進一步,所述P型電極(21)通過所述第一PCB板(24)與散熱板(25)進行固定連接。
進一步,所述P型電極(21)上端通過焊錫與第二PCB板(23)進行固定。
進一步,所述N型電極(22)通過所述第二PCB板(23)與散熱板(25)進行固定連接。
進一步,所述絕緣介質膜(13)的厚度在150nm-450nm之間。
進一步,所述襯底(1)的材質為藍寶石、碳化硅或GaN。
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