[發明專利]具有抗反射涂層的基板和用于制造該基板的方法

有效

• 申請號: 201210042892.2
• 申請日: 2012-02-23
• 公開（公告）號: CN102649327A
• 公開（公告）日: 2012-08-29
• 發明（設計）人: 克里斯蒂安·亨;托爾斯滕·達姆
• 申請（專利權）人: 肖特公開股份有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;C03C17/34
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 楊靖;車文

1.經涂層的基板(3)，所述基板(3)

-在至少一側上具有多層式的抗反射涂層(5)，所述抗反射涂層(5)

-由具有不同折射率的層來構造，其中，具有較高折射率的層和具有較低折射率的層交替，其中，

-所述具有較低折射率的層由具有鋁份額的氧化硅來構造，在所述具有較低折射率的層中

-鋁的材料量與硅的材料量的比例大于0.05、優選大于0.08，但硅的材料量相對于鋁的材料量占優勢，并且其中，

-所述具有較高折射率的層包含硅化物、氧化物或者氮化物。

2.根據前述權利要求所述的經涂層的基板，其特征在于，所述具有較高折射率的層由具有鋁份額的氮化硅來構造，在所述具有較高折射率的層中

-鋁的材料量與硅的材料量的比例大于0.05、優選大于0.08。

3.根據前述權利要求之一所述的經涂層的基板，其特征在于，所述抗反射涂層的表面通過具有較低折射率的、由具有鋁份額的氧化硅所制成的層來形成。

4.根據前述權利要求之一所述的經涂層的基板，其特征在于，所述抗反射涂層具有在總共200納米至400納米的范圍內的層厚度。

5.根據前述權利要求之一所述的經涂層的基板，其特征在于，所述抗反射涂層的表面具有如下的平均粗糙度和均方根粗糙度，所述平均粗糙度和均方根粗糙度關于一平方微米的面積分別為少于1.5納米。

6.根據前述權利要求之一所述的經涂層的基板，其特征在于，所述抗反射涂層具有至少兩層具有較高折射率的層和至少兩層具有較低折射率的層。

7.根據前述權利要求所述的經涂層的基板，其特征在于一種具有由四個彼此跟隨的層組成的層堆疊的抗反射涂層，其中，最下面的層是含氮化硅的較高折射的層，其中，另外那個含氮化硅的較高折射的、形成所述層堆疊的最上面的高折射層的層具有在所述層堆疊內部最大的層厚度，并且其中，所述層堆疊的最上面的層形成具有較低折射率的、由具有鋁份額的氧化硅制成的層，并且具有在所述層堆疊的層中第二大的層厚度，并且其中，第一層和如所述最上面的層那樣為具有較低折射率的由具有鋁份額的氧化硅制成的層的第二層組合起來具有比所述最上面的層的層厚度更薄的層厚度。

8.根據前述權利要求所述的經涂層的基板，其中，在所述基板上沉積有含鋁的氧化硅層，并且在所述含鋁的氧化硅層上沉積有具有所述四個彼此跟隨的層的所述層堆疊。

9.根據前述權利要求之一所述的經涂層的基板，其中，所述基板是玻璃板或者玻璃陶瓷板或者藍寶石板、人造石英玻璃基板、晶體，尤其是用于光學目的的晶體，光學玻璃或者濾光玻璃。

10.根據前述權利要求之一所述的經涂層的基板，其特征在于，所述基板的彎曲的、尤其是呈透鏡形的表面以所述抗反射涂層來進行涂層。

11.用于制造經涂層的基板的方法，其中，

-在所述基板的至少一側上構造多層式的抗反射涂層，將所述抗反射涂層

-通過依次的沉積而由具有不同折射率的層來構造，其中，具有較高折射率的層和具有較低折射率的層交替，其中，

-將所述具有較低折射率的層由具有鋁份額的氧化硅來構造，其中，

-鋁的材料量與硅的材料量的比例大于0.05、優選大于0.08，但硅的材料量相對于鋁的材料量占優勢，并且其中，

-沉積含硅化物、氧化物或者氮化物的層作為具有較高折射率的層。

12.根據前述權利要求所述的方法，其特征在于，將所述抗反射涂層的層通過濺射來沉積。

13.根據前述權利要求所述的方法，其中，將所述抗反射涂層通過磁控濺射來沉積，其中，為了激勵等離子體，應用脈沖場，其中，脈沖具有每平方厘米靶面積至少100瓦特的功率密度。

14.根據前述權利要求所述的方法，其特征在于，在所述脈沖之間的間歇中，維持所述等離子體。