[發明專利]一種異質結晶硅太陽電池鈍化層的制備方法有效
| 申請號: | 201210042843.9 | 申請日: | 2012-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN102593253A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發明(設計)人: | 黃海賓;李媛媛;彭錚;周浪;魏秀琴;周潘兵 | 申請(專利權)人: | 上海中智光纖通訊有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海泰能知識產權代理事務所 31233 | 代理人: | 黃志達;謝文凱 |
| 地址: | 201108 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 結晶 太陽電池 鈍化 制備 方法 | ||
1.一種異質結晶硅太陽電池鈍化層的制備方法,包括:
采用熱絲化學氣相沉積法,以硅烷作為硅源,以氨氣作為氮源,氣壓為0.2Pa~10Pa,襯底溫度為150℃~300℃,熱絲溫度為1800℃~2200℃,襯底與熱絲的距離為3~10cm,膜厚為2~10nm,制得氫化氮化硅層;
或者,采用熱絲化學氣相沉積法,以硅烷作為硅源,以氨氣作為氮源,以氧化氮或者二氧化碳作為氧源,氣壓為0.2Pa~10Pa,襯底溫度為150℃~300℃,熱絲溫度為1800℃~2200℃,襯底與熱絲的距離為3~10cm,膜厚為2~10nm,制得氫化氮氧化硅層。
2.根據權利要求1所述的一種異質結晶硅太陽電池鈍化層的制備方法,其特征在于:所述氫化氮化硅層或氫化氮氧化硅層進行退火處理:在惰性氣體或氫氣保護氣氛下,或者在真空環境中,于200~600℃保溫1~4h。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





