[發(fā)明專利]基于分級(jí)結(jié)構(gòu)化復(fù)合彈性研拋盤(pán)的動(dòng)壓光整方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210042630.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-02-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102658521A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-09-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金明生;計(jì)時(shí)鳴;敖海平;張利;文東輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B24B37/11 | 分類號(hào): | B24B37/11;B24B37/34;B24B55/02;B24B55/06 |
| 代理公司: | 杭州天正專利事務(wù)所有限公司 33201 | 代理人: | 王兵;黃美娟 |
| 地址: | 310014 浙*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 分級(jí) 結(jié)構(gòu) 復(fù)合 彈性 研拋盤(pán) 壓光 方法 | ||
1.基于分級(jí)結(jié)構(gòu)化復(fù)合彈性研拋盤(pán)的動(dòng)壓光整方法包括以下步驟:提供工件;將工件固定于動(dòng)壓光整系統(tǒng)的加壓塊上;移動(dòng)加壓塊所在的動(dòng)壓調(diào)節(jié)裝置,使之與研拋盤(pán)最外沿的粗磨圈接觸;動(dòng)壓調(diào)節(jié)裝置根據(jù)反饋回的壓力與預(yù)設(shè)壓力之間的差值,通過(guò)實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)電磁裝置中的電流,使工件與研拋盤(pán)間的壓力動(dòng)態(tài)穩(wěn)定于預(yù)設(shè)壓力;液體噴射裝置的支導(dǎo)管分別與研拋盤(pán)上的結(jié)構(gòu)化流道連接,使工件表面充分與冷卻液(拋光液)等接觸;工件首先在具有一定轉(zhuǎn)速的研拋盤(pán)粗磨圈進(jìn)行加工,當(dāng)時(shí)間達(dá)到工藝預(yù)設(shè)值時(shí),工件隨動(dòng)壓調(diào)節(jié)裝置再分別依次移動(dòng)到具有不同轉(zhuǎn)速的細(xì)磨圈、精磨圈和拋光內(nèi)圈進(jìn)行加工,在拋光內(nèi)圈加工完成后,即結(jié)束整個(gè)工件的研拋加工。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于:分級(jí)結(jié)構(gòu)化復(fù)合彈性研拋盤(pán)由磨料層、粘結(jié)層和基體層組成。所述磨料層運(yùn)用分級(jí)理念,設(shè)置有研磨外圈和拋光內(nèi)圈,所述研磨外圈沿研拋盤(pán)直徑方向由外向內(nèi)分為粗磨圈、細(xì)磨圈和精磨圈。粗磨圈、細(xì)磨圈、精磨圈和拋光內(nèi)圈分別采用不同的磨粒配比和磨粒粒度,適用于工件粗磨、細(xì)磨、精磨和拋光加工。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于:所述的基于分級(jí)結(jié)構(gòu)化復(fù)合彈性研拋盤(pán)表面設(shè)計(jì)有結(jié)構(gòu)化流道。
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