[發(fā)明專利]光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)及回收方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210042493.6
• 申請日: 2012-02-15
• 公開（公告）號: CN103255419A
• 公開（公告）日: 2013-08-21
• 發(fā)明（設計）人: 施道可;范瓊;潘加永
• 申請（專利權）人: 庫特勒自動化系統(tǒng)(蘇州)有限公司
• 主分類號: C23F1/46
• 分類號: C23F1/46;C30B33/10;C02F9/06
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張萍;李炳愛

1.一種光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，系與硅片蝕刻設備及清洗設備相配合以對廢物體系進行回收處理，其特征在于：其包括與所述清洗設備流體相通的第一緩沖水箱、與所述第一緩沖水箱流體相通的第一循環(huán)水箱、與所述第一循環(huán)水箱流體相通的電滲析設備，以及與所述電滲析設備流體相通的反滲透設備。

2.根據(jù)權利要求1所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：所述第一循環(huán)水箱同時與所述反滲透設備流體相通。

3.根據(jù)權利要求1所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：所述第一緩沖水箱和第一循環(huán)水箱之間通過一第二緩沖水箱流體相通，同時所述反滲透設備與所述第二緩沖水箱流體相通。

4.根據(jù)權利要求1所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：所述電滲析設備包括依次流體相通的第一電滲析單元、第二電滲析單元及第三電滲析單元。

5.根據(jù)權利要求4所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：所述第一電滲析單元和第二電滲析單元之間通過一第二循環(huán)水箱流體相通，所述第二電滲析單元和第三電滲析單元之間通過一第三循環(huán)水箱流體相通。

6.根據(jù)權利要求4所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：所述第三電滲析單元與所述蝕刻設備流體循環(huán)相通。

7.根據(jù)權利要求4所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：其進一步包括與所述電滲析設備相配合以吸收氣體的氣體洗滌設備，所述氣體洗滌設備包括分別和所述第一電滲析單元流體循環(huán)的第一氣體凈化器、和所述第二電滲析單元流體循環(huán)的第二氣體凈化器及和所述第三電滲析單元流體循環(huán)的第三氣體凈化器。

8.根據(jù)權利要求1所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：其進一步包括與所述電滲析設備相配合以吸收氣體的氣體洗滌設備。

9.根據(jù)權利要求1所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：其進一步包括與所述反滲透設備流體相通的第三緩沖水箱以儲存經純化后的清洗液。

10.根據(jù)權利要求1所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：于所述清洗設備及第一緩沖水箱之間設有過濾設備。

11.一種光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，所述廢物體系來自用于對硅片進行蝕刻的蝕刻設備和用于對硅片進行清洗的清洗設備，其特征在于：所述回收系統(tǒng)包括與所述蝕刻設備流體相通的電滲析設備，以及分別與所述電滲析設備和清洗設備流體相通的反滲透設備，其中所述電滲析設備包括依次串聯(lián)流體相通的兩個或更多個電滲析單元，其中每一個電滲析單元與一個循環(huán)水箱流體相通并通過循環(huán)水箱與相鄰的電滲析單元形成循環(huán)回路，且一端的一個電滲析單元通過與之流體相通的循環(huán)水箱與所述反滲透設備流體相通，而另一端的一個電滲析單元與所述蝕刻設備流體相通。

12.根據(jù)權利要求11所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：其還包括置于所述反滲透設備與清洗設備之間的過濾設備。

13.根據(jù)權利要求12所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：其還包括置于所述過濾設備和反滲透設備之間的第一緩沖水箱，優(yōu)選其還包括置于所述過濾設備和反滲透設備之間的彼此串聯(lián)流體相通的第一緩沖水箱和第二緩沖水箱。

14.根據(jù)權利要求11至13中任一項所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：其還包括與所述反滲透設備流體相通的第三緩沖水箱以儲存純化后的清洗液。

15.根據(jù)權利要求11至14中任一項所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：其還包括與所述蝕刻設備和電滲析設備流體相通的氣體洗滌設備，所述電滲析設備與所述氣體洗滌設備相配合以吸收氣體。

16.根據(jù)權利要求15所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：所述氣體洗滌設備包括分別與所述兩個或更多個電滲析單元中的每一個形成循環(huán)回路的兩個或更多個氣體凈化器。

17.根據(jù)權利要求11至14中任一項所述的回收系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗設備中設置有浸漬處理段或噴嘴，或者清洗設備中同時設置有浸漬處理段和噴嘴。

18.根據(jù)權利要求11至14中任一項所述的回收系統(tǒng)，其特征在于：所述反滲透設備中有濃水室和純水室。