[發明專利]牛卡紙的制備工藝及其涂布用涂料

無效

• 申請號: 201210041380.4
• 申請日: 2012-02-23
• 公開（公告）號: CN102587202A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 蔡維明;蔣生根
• 申請（專利權）人: 富陽市茂宏紙業有限公司
• 主分類號: D21H19/40
• 分類號: D21H19/40;D21H19/56;D21H23/02
• 代理公司: 杭州杭誠專利事務所有限公司 33109
• 代理人: 尉偉敏

技術領域

本發明涉及造紙領域，具體涉及一種牛卡紙的制備工藝及其涂布用涂料。

背景技術

牛卡紙的強度高，單面白度也較高，因而廣泛應用于包裝材料。它通常包括面層、芯層和底層，并通過在面層上涂布涂料后得到涂布牛卡紙。由于采用了層狀結構，各個層可以此采用不同的原料，例如，面層可以采用一次漿料，其余層可以采用二次漿料，同時目前的牛卡紙一般也正是因為采用廢紙或者木匠作為原材料制造，成本較低，但是由于其表面粗糙光滑度不夠導致印刷性能差，另外容易變黃。隨著人們生活品位的提高，人們對包裝質量的追求也越來越高，因此對牛卡紙的光澤度、耐久性、防水性以及其他性能的要求也越來越高，現有的牛卡紙的質量已經不能夠滿足人們的需要。

一個公告號為“CN?101581055?B”公告日為2011.11.16的專利公開了一種輕涂白面牛卡紙及其制造方法，它在白卡紙的面層上涂布一層涂料，保留了原紙的強度，以低定量提高單位重量的紙箱產量，但是這種白卡并沒有在紙張的性能上得到充分提升，其光澤度、光滑度及適印性等性能并沒有得到改善。

發明內容

本發明的目的是針對現有牛卡紙的不足提供了一種牛卡紙制備工藝，該工藝制備的牛卡紙不僅具有良好的光澤度和光滑度，且抗光照、防輻射、適印性優良。

本發明的另一個目的是提供一種牛卡紙涂布用涂料，該涂料具有附著性好的優點，且用其涂布后的卡紙具有良好的光澤度、光滑度、抗光照及抗輻射性能。

針對以上技術問題，本發明的技術方案為：

一種牛卡紙的制備工藝，包括：面層漿料、襯層漿料和底層漿料的制備；面層漿料、襯層漿料和底層漿料抄造制備原紙；原紙的壓榨、干燥和壓光前處理工藝；原紙的涂布工藝；涂布后的后處理工藝；原紙的涂布工藝包括以下步驟：

（1）顏料分散：將適量水加入分散機中，并通過加入氫氧化鈉或氨水調節水的pH為6.0~6.6，然后加入0.2~0.4份聚丙烯酸鈉并低速攪拌5~10min，然后加入高嶺土60~70份并高速攪拌5~10min，然后以高嶺土和重質碳酸鈣總和為100份計，加入重質碳酸鈣，并高速攪拌5~10min；

（2）助劑配制：向步驟（1）的分散機中加入納米二氧化硅0.2~0.5份，玄武巖纖維0.5~2份，CMC?0.3~0.6份，氧化淀粉4.5~6.5份，丁苯膠乳9~13份，并高速攪拌5~15min；

（3）其他助劑配制：向步驟（2）的分散機中加入消泡劑0.4~1份，耐水劑0.4~1份，增白劑0.3~0.8份，潤滑劑0.3~0.8，抗水劑0.5~2份，防腐劑0.4~1份，并調整混合物的固含量61~67%，得到涂布用涂料；

（4）紙張涂布：采用步驟（3）得到的涂布用涂料對原紙進行涂布，牛卡紙的定量為100~300?g/m²，涂布量為7~30g/m²。

牛卡紙一般采用不同檔次的原料，表面的涂布對紙張的性能尤為關鍵，本發明中的涂布采用自制的涂料，能夠總體改善紙張的性能，提高紙張的強度、光滑度、抗光照、防輻射等性能。

一種牛卡紙涂布用涂料，按重量份數計，各組分包括：顏料100份，顏料包括高嶺土和重質碳酸鈣，其中高嶺土的質量份數為60~70份，聚丙烯酸鈉0.2~0.4份，納米二氧化硅0.2~0.5份，玄武巖纖維0.5~2份，CMC?0.3~0.6份，氧化淀粉4.5~6.5份，丁苯膠乳9~13份，消泡劑0.4~1份，耐水劑0.4~1份，防腐劑0.4~1份，增白劑0.3~0.8份，潤滑劑0.3~0.8，抗水劑0.5~2份，水適量。

納米二氧化硅不僅可以提高強度，還可以提高抗光照性，玄武巖纖維不僅具有高強度、高模量的特點，并且耐高溫性佳、抗氧化、抗輻射、絕熱隔音。

作為優選，玄武巖纖維的直徑為小于等于100nm。纖維內徑較大容易增加紙張表面的粗糙度。

作為優選，牛卡紙涂布用涂料的固含量為61~67%。這個固含量范圍在保持涂料原有特性基礎上能夠更容易分散。

作為優選，牛卡紙涂布用涂料的pH為6.0~6.6。合適的pH能夠使各組分容易分散，提高涂料的整體性能。

作為優選，納米二氧化硅的粒徑小于等于100nm。納米二氧化硅的粒徑影響了紙張表面的粗糙度，過大容易使紙張表面粗糙。

作為優選，高嶺土的粒徑小于等于2μm，其中粒徑小于等于1μm的高嶺土占70%。粒度均勻且大小適度可以使涂料在涂布過程更容易，且能提高涂布效果，增加紙張表面光滑度和光澤性。