[發明專利]一種防腐蝕的釹鐵硼永磁表面鍍層材料及其加工工藝無效
| 申請號: | 201210041124.5 | 申請日: | 2012-02-22 |
| 公開(公告)號: | CN102582157A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發明(設計)人: | 孫寶玉;劉振剛;裴文利;惠鑫;崔振華 | 申請(專利權)人: | 沈陽中北通磁科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B32B15/01 | 分類號: | B32B15/01;C23C28/02;C23C18/32;C25D5/14 |
| 代理公司: | 沈陽優普達知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 俞魯江 |
| 地址: | 110179 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 腐蝕 釹鐵硼 永磁 表面 鍍層 材料 及其 加工 工藝 | ||
1.一種防腐蝕的釹鐵硼永磁表面鍍層材料,其特征在于,釹鐵硼永磁材料表面的鍍層由里往外依次為,電鍍Ni層、化學鍍Ni層、電鍍Cu層、化學鍍Ni層和電鍍Ni層。
2.根據權利要求1所述的防腐蝕的釹鐵硼永磁表面鍍層材料,其特征在于,鍍層總厚度為16~35μm。
3.根據權利要求1所述的防腐蝕的釹鐵硼永磁表面鍍層材料,其特征在于,鍍層中的化學鎳層厚度為2~10μm,鍍層中的電鍍鎳層厚度為3~15μm,鍍層中的銅層厚度為3~15μm。
4.一種權利要求1所述的防腐蝕的釹鐵硼永磁表面鍍層材料的加工工藝,其特征在于,加工時,其在釹鐵硼永磁體表面依次進行電鍍Ni、化學鍍Ni、電鍍Cu、化學鍍Ni和電鍍Ni。
5.根據權利要求4所述的防腐蝕的釹鐵硼永磁表面鍍層材料的加工工藝,其特征在于,釹鐵硼永磁體在鍍層前還進行了倒角、除油、酸洗和活化。
6.根據權利要求4所述的防腐蝕的釹鐵硼永磁表面鍍層材料的加工工藝,其特征在于,電鍍Ni的加工工藝為,將經過前處理的釹鐵硼永磁體置于鍍鎳溶液中,在溫度為48~52℃,pH=4.2~4.6的條件下進行電鍍鎳,電流密度為0.8~1?A/dm2,電鍍時間為30~60min;
鍍Ni溶液的組成為,NiSO4·6H2O?220~250g/L;NiCL2?35~40g/L;H3BO3?40~45g/L,溶劑為水。
7.根據權利要求4所述的防腐蝕的釹鐵硼永磁表面鍍層材料的加工工藝,其特征在于,化學鍍Ni的加工工藝為,將鍍層后的釹鐵硼永磁體置于化學鍍鎳溶液中,在溫度為65~75℃,pH=4.8~5.0的條件下進行化學鍍鎳,化學鍍時間為20~60min;
化學鍍Ni溶液的組成為,NiSO4·6H2O?18~23g/L;NaC2H3O2·3H2O?14~15g/L;Na3C6H5O7·2H2O?9~10g/L;NaH2PO2·H2O?20~25g/L;C4H6O5?10~20g/L,CuSO4·5H2O?0.01~0.03g/L;溶劑為水。
8.根據權利要求4所述的防腐蝕的釹鐵硼永磁表面鍍層材料的加工工藝,其特征在于,電鍍Cu的加工工藝為,
將化學鍍鎳后的釹鐵硼永磁體置于鍍銅溶液中,在溫度為44~46℃,pH=8.0~8.5的條件下進行電鍍銅,電流密度為0.6~0.8A/dm2,電鍍時間為30~60min;
鍍銅溶液的組成為,K4P2O7?270~300g/L;Cu2P2O7?40~60g/L,溶劑為水。
9.根據權利要求4所述的防腐蝕的釹鐵硼永磁表面鍍層材料的加工工藝,其特征在于,釹鐵硼永磁體在鍍層后進行了熱處理,熱處理是在無氧條件下進行的,熱處理溫度為600~850℃,熱處理時間為1~2h。
10.根據權利要求9所述的防腐蝕的釹鐵硼永磁表面鍍層材料的加工工藝,其特征在于,所述的無氧條件為氬氣氣氛、氮氣氣氛或真空度為1~3×10-3MPa。
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