[發明專利]用于發光元件的反射膜用組合物、發光元件及其制造方法

有效

• 申請號: 201210041065.1
• 申請日: 2012-02-21
• 公開（公告）號: CN102651441A
• 公開（公告）日: 2012-08-29
• 發明（設計）人: 馬渡芙弓;近藤洋二;泉禮子;山崎和彥
• 申請（專利權）人: 三菱綜合材料株式會社
• 主分類號: H01L33/46
• 分類號: H01L33/46;H01L33/00
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 康泉;王珍仙

1.一種用于發光元件的反射膜用組合物，其特征在于，用于依次具備發光層、透光性基板和反射由發光層發出的光的反射膜的發光元件，反射膜用組合物含有金屬納米粒子。

2.根據權利要求1所述的用于發光元件的反射膜用組合物，進而含有添加物。

3.根據權利要求1或2所述的用于發光元件的反射膜用組合物，進而含有分散介質。

4.一種用于發光元件的加強膜用組合物，用于依次具備發光層、透光性基板、反射由發光層發出的光的反射膜和加強膜的發光元件，加強膜用組合物含有粘合劑。

5.根據權利要求4所述的用于發光元件的加強膜用組合物，其特征在于，含有選自二氧化硅類粒子、硅酸鹽粒子、金屬粒子或金屬氧化物粒子中的一種或兩種以上的微粒或扁平粒子。

6.一種發光元件，其特征在于，依次具備發光層、透光性基板和反射由發光層發出的光的反射膜，反射膜含有金屬納米粒子。

7.根據權利要求6所述的發光元件，反射膜進而含有添加物。

8.根據權利要求6或7所述的發光元件，進而具有加強膜，依次具備所述發光層、所述透光性基板、所述反射膜和所述加強膜，所述加強膜含有粘合劑。

9.根據權利要求8所述的發光元件，其特征在于，所述加強膜進而含有選自二氧化硅類粒子、硅酸鹽粒子、金屬粒子或金屬氧化物粒子中的一種或兩種以上的微粒或扁平粒子。

10.根據權利要求6或7所述的發光元件，所述反射膜通過濕式涂布法制造。

11.根據權利要求8所述的發光元件，所述反射膜和/或加強膜通過濕式涂布法制造。

12.根據權利要求6或7所述的發光元件，反射膜的厚度為0.05～1.0μm。

13.根據權利要求8所述的發光元件，反射膜的厚度為0.05～1.0μm。

14.一種發光元件的制造方法，其特征在于，在透光性基板上利用濕式涂布法涂布含有金屬納米粒子和添加物的反射膜用組合物后，通過燒成或固化形成反射膜，在透光性基板的反射膜的相反面形成發光層。

15.根據權利要求14所述的發光元件的制造方法，在形成反射膜之后、形成發光層之前，進而在反射膜上利用濕式涂布法涂布含有粘合劑的加強膜用組合物后，通過燒成或固化形成加強膜。