[發(fā)明專(zhuān)利]衍射光學(xué)元件及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210040533.3
• 申請(qǐng)日: 2012-02-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102645688A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-08-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 巖田研逸
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G02B5/18
• 分類(lèi)號(hào): G02B5/18;G02B1/10
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 楊小明

1.一種衍射光學(xué)元件，包括多個(gè)光柵部分，所述多個(gè)光柵部分包括連續(xù)地形成在其表面上的光柵光學(xué)有效表面和光柵壁表面，其中：

所述多個(gè)光柵部分的各個(gè)光柵光學(xué)有效表面包括形成在其上的Al₂O₃層；并且

所述多個(gè)光柵部分的各個(gè)光柵壁表面包括形成在其上的Al層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的衍射光學(xué)元件，其中，所述Al層具有2.0g/cm³或更大并且2.7g/cm³或更小的膜密度以及50nm或更大并且1μm或更小的膜厚度，并且所述Al₂O₃層具有0.4g/cm³或更大并且1.0g/cm³或更小的膜密度以及5nm或更大并且30nm或更小的膜厚度。

3.一種衍射光學(xué)元件的制造方法，包括：

在基底基板的表面上形成多個(gè)光柵部分，所述多個(gè)光柵部分連續(xù)地包括光柵光學(xué)有效表面和光柵壁表面；

形成Al層，以使得膜形成粒子對(duì)于所述多個(gè)光柵部分的各個(gè)光柵壁表面垂直入射，并對(duì)于所述多個(gè)光柵部分的各個(gè)光柵光學(xué)有效表面傾斜入射；以及

從將對(duì)于所述各個(gè)光柵光學(xué)有效表面垂直入射的方向執(zhí)行所述Al層的氧化處理，以使得所述各個(gè)光柵光學(xué)有效表面上的Al層變?yōu)锳l₂O₃層。