[發明專利]衍射光學元件及其制造方法有效
| 申請號： | 201210040533.3 | 申請日： | 2012-02-21 |
| 公開（公告）號： | CN102645688A | 公開（公告）日： | 2012-08-22 |
| 發明（設計）人： | 巖田研逸 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18;G02B1/10 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 楊小明 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 衍射 光學 元件 及其 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種衍射光學元件，包括多個光柵部分，所述多個光柵部分包括連續地形成在其表面上的光柵光學有效表面和光柵壁表面，其中：
所述多個光柵部分的各個光柵光學有效表面包括形成在其上的Al2O3層；并且
所述多個光柵部分的各個光柵壁表面包括形成在其上的Al層。
2.根據權利要求1所述的衍射光學元件，其中，所述Al層具有2.0g/cm3或更大并且2.7g/cm3或更小的膜密度以及50nm或更大并且1μm或更小的膜厚度，并且所述Al2O3層具有0.4g/cm3或更大并且1.0g/cm3或更小的膜密度以及5nm或更大并且30nm或更小的膜厚度。
3.一種衍射光學元件的制造方法，包括：
在基底基板的表面上形成多個光柵部分，所述多個光柵部分連續地包括光柵光學有效表面和光柵壁表面；
形成Al層，以使得膜形成粒子對于所述多個光柵部分的各個光柵壁表面垂直入射，并對于所述多個光柵部分的各個光柵光學有效表面傾斜入射；以及
從將對于所述各個光柵光學有效表面垂直入射的方向執行所述Al層的氧化處理，以使得所述各個光柵光學有效表面上的Al層變為Al2O3層。
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