[發明專利]可實時測量的同步相移斐索干涉裝置

有效

• 申請號: 201210039555.8
• 申請日: 2012-02-21
• 公開（公告）號: CN102589414A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 姚保利;郜鵬;閔俊偉;雷銘;嚴紹輝;楊延龍;葉彤
• 申請（專利權）人: 中國科學院西安光學精密機械研究所
• 主分類號: G01B9/02
• 分類號: G01B9/02;G01B11/24
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 徐平

1.一種可實時測量的同步相移斐索干涉裝置，包括照明單元、干涉單元、同步相移單元，其特征在于：所述干涉單元包括設置在光路上的非偏振分光棱鏡、第一1/4波片和樣品，樣品平行于1/4波片的表面放置；所述第一1/4波片的主軸方向和照明光的偏振方向成45°角；所述同步相移單元包括依次設置在非偏振分光棱鏡反射光路方向的第二1/4波片、平行分光單元、濾波單元、偏振單元以及CCD相機；所述第二1/4波片的主軸方向分別與物光和參考光偏振方向成45°角。

2.根據權利要求1所述的同步相移斐索干涉裝置，其特征在于：所述平行分光單元包括平行放置在第二1/4波片后的第一光柵和第二光柵；所述濾波單元包括由第三透鏡和第四透鏡組成的望遠鏡系統，以及設置在第三透鏡后焦面上的光闌；所述偏振單元是放置在第四透鏡后的偏振掩膜板。

3.根據權利要求2所述的同步相移斐索干涉裝置，其特征在于：所述偏振掩模板由偏振方向依次成45°角的4片偏振片排列組成的2×2陣列。

4.根據權利要求3所述的同步相移斐索干涉裝置，其特征在于：所述第一光柵和第二光柵是振幅型光柵或相位型光柵，所述第一光柵和第二光柵的周期相同。

5.根據權利要求4所述的同步相移斐索干涉裝置，其特征在于：所述第一光柵和第二光柵是相位階為π的二進制二維相位光柵。

6.根據權利要求1至5任一所述的同步相移斐索干涉裝置，其特征在于：所述照明單元包括激光器，由第一透鏡和第二透鏡組成的擴束準直系統，第一透鏡后焦平面上設置有針孔濾波器。

7.根據權利要求6所述的同步相移斐索干涉裝置，其特征在于：所述第一1/4波片的表面平整度要求小于1/50波長。