[發明專利]圖案轉印裝置以及圖案轉印方法

無效

• 申請號: 201210038562.6
• 申請日: 2012-02-17
• 公開（公告）號: CN102736407A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: 長谷川滿;村上元;宮內昭浩;荻野雅彥
• 申請（專利權）人: 株式會社日立制作所
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;B29C59/02;B29C59/04;B82Y30/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 郭小軍

1.一種圖案轉印裝置，該圖案轉印裝置通過在將具有微小的凹凸圖案的模按壓在被轉印材料上之后從所述被轉印材料剝離所述模，向所述被轉印材料的表面轉印所述凹凸圖案，其特征在于，具備：

前處理機構，該前處理機構在進行圖案轉印之前對所述模或者所述被轉印材料實施規定的表面處理，

信息記錄機構，該信息記錄機構將與由所述前處理機構實施的所述表面處理相關的信息，記錄到與所述被轉印材料的進行了圖案轉印的區域有關聯的位置上，

識讀機構，該識讀機構讀取被記錄的所述信息，和

后處理機構，該后處理機構基于由所述識讀機構識讀出的所述信息，對所述進行了圖案轉印的區域的所述被轉印材料實施規定的后處理。

2.如權利要求1所述的圖案轉印裝置，其特征在于，所述信息記錄機構利用印字、刻印以及粘貼物中的至少任意一種來記錄所述信息。

3.如權利要求1或2所述的圖案轉印裝置，其特征在于，所述模形成為帶狀。

4.如權利要求1到3中的任一項所述的圖案轉印裝置，其特征在于，所述前處理機構是向所述模的表面供給脫模劑的脫模劑供給機構。

5.如權利要求1到4中的任一項所述的圖案轉印裝置，其特征在于，所述后處理機構構成為具備以下機構中的至少一種機構：

回收機構，該回收機構對所述被轉印材料的進行了圖案轉印的區域進行沖裁而進行分離回收，

光照射機構，該光照射機構向所述被轉印材料的進行了圖案轉印的區域照射規定的波長的光，以及

凈化機構，該凈化機構向所述被轉印材料的進行了圖案轉印的區域供給規定的液體或氣體而進行清洗。

6.一種圖案轉印方法，該圖案轉印方法通過在將具有微小的凹凸圖案的模按壓在被轉印材料上之后從所述被轉印材料剝離所述模，向所述被轉印材料的表面轉印所述凹凸圖案，其特征在于，具有：

前處理工序，在進行圖案轉印之前對所述模或者所述被轉印材料實施規定的表面處理，

信息記錄工序，將與由所述前處理工序實施的所述表面處理相關的信息，記錄到與所述被轉印材料的進行了圖案轉印的區域有關聯的位置上，

識讀工序，讀取所述信息，和

后處理工序，基于由所述識讀工序識讀出的所述信息，對所述進行了圖案轉印的區域的所述被轉印材料實施規定的后處理。

7.如權利要求6所述的圖案轉印方法，其特征在于，所述信息記錄工序利用印字、刻印以及粘貼物中的至少任意一種來記錄所述信息。

8.如權利要求6或7所述的圖案轉印方法，其特征在于，所述前處理工序是向所述模的表面供給脫模劑的脫模劑供給工序。

9.如權利要求6到8中的任一項所述的圖案轉印方法，其特征在于，所述后處理工序具有以下工序中的至少一種工序：

回收工序，對所述被轉印材料的進行了圖案轉印的區域進行沖裁而進行分離回收，

光照射工序，向所述被轉印材料的進行了圖案轉印的區域照射規定的波長的光，以及

凈化工序，向所述被轉印材料的進行了圖案轉印的區域供給規定的液體或者氣體而進行清洗。