[發明專利]基于銅互連中以金屬釕作為粘附阻擋層的拋光工藝的拋光液

無效

• 申請號: 201210038521.7
• 申請日: 2012-02-21
• 公開（公告）號: CN102604542A
• 公開（公告）日: 2012-07-25
• 發明（設計）人: 曾旭;屈新萍
• 申請（專利權）人: 復旦大學
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 上海正旦專利代理有限公司 31200
• 代理人: 陸飛;盛志范

1.一種基于銅互連中以金屬釕作為粘附阻擋層的拋光工藝的拋光液，其特征在于，該拋光液原料組分按重量百分數計如下：

抑制劑??0.001-10?%?，

氧化劑??0.1-10?%，

研磨顆粒?1-25?%，

表面活性劑??0.001-5?%，

余量為水；

pH值為8.5-9.5；

其中，所述抑制劑選自同時含有一個或多個氨基，以及羧基的有機酸中的任意一種，或這些有機酸中的幾種；?

所述氧化劑選自氧化氫、過硫酸銨、高碘酸鉀、溴酸鉀、過硼酸鹽、硝酸鈰銨中的任意一種，或其中的幾種；

所述的研磨顆粒選自SiO₂水溶膠或金屬氧化物Al₂O₃、CeO₂或TiO₂的水溶膠中的任意一種，或其中的幾種；研磨顆粒直徑為30-100nm；

所述的表面活性劑選自烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、十二烷基胺、十二烷基苯磺酸鹽、聚乙烯乙二醇、聚氧乙烯烷基胺中的任意一種，或其中的幾種。

2.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于原料組分按重量百分數計為：

抑制劑?0.0075-0.01?%?，

氧化劑?0.5-4?%，

研磨顆粒?2-7?%，

表面活性劑?0.05-0.1%，

余量為水。

3.根據權利要求1或2所述的拋光液，其特征在于所述抑制劑為氨基酸，所述氨基酸選自亞氨基二乙酸，乙二胺四乙酸，甘氨酸，谷氨酸、亮氨酸、精氨酸中的任意一種，或其種幾種。

4.根據權利要求1或2所述的拋光液，其特征在于用于調節pH值的調節劑選自稀釋的所述的pH調節劑選自稀釋的硝酸、硫酸、稀醋酸、鹽酸、氫化化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉中的任意一種。