[發明專利]自動循環等離子氣相沉積系統

有效

• 申請號: 201210035962.1
• 申請日: 2012-02-16
• 公開（公告）號: CN102560426A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 朱剛勁;朱剛毅;朱文廓
• 申請（專利權）人: 肇慶市騰勝真空技術工程有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44;C23C16/54;C03C17/00
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
• 代理人: 裘暉

技術領域

本發明涉及平面基材鍍膜技術領域，特別涉及一種自動循環等離子氣相沉積系統。

背景技術

等離子增強化學氣相沉積(PECVD)是在電源(包括射頻電源、直流電源或交流電源等)接通的條件下通入相關氣體，生成的薄膜沉積在基底上，可應用于半導體、太陽能、顯示器及電子應用的設備中。由于該工藝沒有環境污染產生，沒有化學污水排放，同時消耗功率低，效率較高，因此逐步被應用。但目前的等離子氣相沉積技術一般只能應用于表面積較小的工件，不能適用于太陽能發電用玻璃等表面積較大的工件處理。

發明內容

本發明的目的在于克服現有技術的不足，提供一種適用于大面積工件處理的自動循環等離子氣相沉積系統。

本發明的技術方案為：一種自動循環等離子氣相沉積系統，包括預熱室、至少一個等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室，預熱室、等離子氣相沉積室和冷卻室通過第一導軌依次連接，清洗室與冷卻室平行設置，清洗室底部設置第二導軌，第一導軌的兩端分別設置入室導軌和出室導軌，入室導軌與第一輸送帶連接并相互垂直設置，出室導軌與第二輸送帶連接并相互垂直設置，第一導軌、第二導軌、第一輸送帶和第二輸送帶形成長方形結構；預熱室、等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室分別外接有抽真空機構；預熱室與等離子氣相沉積室的相接處和等離子氣相沉積室與冷卻室的相接處分別設有真空鎖；玻璃工件設于工件架上，工件架通過其底部的滾輪運動于第一導軌或第二導軌上；工件架通過入室車運動于第一輸送帶及入室導軌上，工件架通過出室車運動于第二輸送帶及出室導軌上。

所述等離子氣相沉積室有6個，6個等離子氣相沉積室串聯設于預熱室和冷卻室之間，各等離子氣相沉積室分別與抽真空機構連接，相鄰兩個等離子氣相沉積室之間設有真空鎖。對于需要進行多層沉積的玻璃工件來說，設置多個等離子氣相沉積室，各個等離子氣相沉積室可根據工藝需要充入不同的氣體，相比起在同一等離子氣相沉積室內交替充入不同氣體的情況，可避免不同氣體的交叉污染。

所述真空鎖為插板式真空鎖，包括氣缸、閥體和閥芯組件，閥體為中空的長方體箱式結構，閥體的左右兩側壁分別與位于其兩側的真空室固定連接，閥體的左右兩側壁上分別開有閥體通孔，閥體通孔與位于閥體兩側的真空室內的工件通孔相通，閥芯組件設于閥體的中部空間內，氣缸末端穿過閥體頂部并與閥芯組件連接；閥芯組件包括對稱設置的兩個活動板，兩個活動板之間設置活動鉸并通過活動鉸與氣缸末端連接，兩個活動板的底部分別設有導輪。該結構的真空鎖使用時，當需要關閉真空鎖，氣缸運行，其末端帶動閥芯組件在閥體中部空間內向下運動，當閥芯組件下降至導輪與閥體內底面相接觸時，氣缸末端繼續下降，通過各活動鉸將兩個活動板向兩側撐開，兩個活動板在導輪的引導下滑向閥體中部空間的兩側壁，當兩個活動板的外側分別貼緊于閥體中部空間的兩側壁時，兩個活動板分別封住相應的閥體通孔，從而隔開閥體左右兩側真空室上的工件通孔，達到密封的目的；當需要打開真空鎖，驅動元件運行，其末端帶動閥芯組件在閥體中部空間內反向運動，通過活動鉸先將兩個活動板向中間收攏后，再使其上升至導輪高于閥體通孔所處的位置即可。

所述兩個活動板之間設有至少一個拉簧，各拉簧兩端分別固定于兩個活動板的側壁上。在兩個活動板之間設置拉簧，可防止活動板運動過快而產生碰撞，確保設備的正常運行。

所述抽真空機構包括相連接的干泵和高真空機組，高真空機組的入口端通過管道分別與預熱室、等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室連接。

所述清洗室為真空高頻離子清洗室，清洗室的室壁上設有多個真空測量規，清洗室還通過管道外接吸塵機。

所述等離子氣相沉積室底部設有多個輸入電極自動接合機構；等離子氣相沉積室包括沉積室腔和真空室壁，真空室壁設于沉積室腔外周；輸入電極自動接合機構包括固定電極、動電極、射頻輸入件和氣動件，固定電極與沉積室腔底部固定連接，動電極設于固定電極下方，動電極與真空室壁的相接處設有密封件，密封件外周依次設置水冷套和絕緣套，動電極下端設置射頻輸入件，動電機下端通過絕緣隔離件與氣動件連接，固定電極和動電極外周還分別設有屏蔽件。各個輸入電極自動接合機構使用時，其原理是：當工件架進入真空室進行等離子增強化學氣相沉積時，系統的驅動機構驅動氣動件動作，氣動件末端驅使動電極滑動并與固定電極相接，射頻機構通過射頻接入件即可進行等離子增強化學氣相沉積。

所述預熱室的室壁和冷卻室的室壁上也分別設有多個真空測量規。

所述工件架包括機架體和多個隔板，多個隔板分布于機架體中部，相鄰兩個隔板之間設置玻璃工件。