[發明專利]成膜裝置

無效

• 申請號: 201210035752.2
• 申請日: 2012-02-16
• 公開（公告）號: CN102644051A
• 公開（公告）日: 2012-08-22
• 發明（設計）人: 金子裕是;林輝幸;小野裕司
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/56;C23C14/12;H01L21/67
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種成膜裝置，具有：收納被處理基板的處理室；和將成膜材料的蒸氣向該被處理基板噴出的成膜材料噴出部，該成膜裝置的特征在于，包括：

在所述處理室的內部具有捕捉部，該捕捉部對從所述成膜材料噴出部噴出并且在所述被處理基板反沖的成膜材料進行捕捉。

2.如權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于：

所述捕捉部具有從所述成膜材料噴出部噴出并且在所述被處理基板反沖的成膜材料所進入的多個間隙或孔部。

3.如權利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于：

所述捕捉部具有對置的多個板部。

4.如權利要求3所述的成膜裝置，其特征在于：

具有對所述被處理基板進行支承的支承臺，

所述板部以面方向相對于所述支承臺交叉的方式配置，所述被處理基板側的部位向所述成膜材料噴出部側彎曲。

5.如權利要求1～4中任何一項所述的成膜裝置，其特征在于：

所述成膜材料噴出部具有將多種成膜材料的蒸氣向所述被處理基板分別噴出的多個蒸鍍頭，

所述捕捉部配置于多個所述蒸鍍頭之間。

6.如權利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于：

所述成膜材料噴出部具有將多種成膜材料的蒸氣向所述被處理基板分別噴出的多個蒸鍍頭，

所述捕捉部具有呈大致矩形形狀的對置的多個板部，該多個板部以一條邊比多個所述蒸鍍頭更位于所述被處理基板側的方式，配置于多個所述蒸鍍頭之間。

7.如權利要求6所述的成膜裝置，其特征在于：

多個所述板部的所述被處理基板側的部位向最近的所述蒸鍍頭側彎曲。