[發明專利]一種陶瓷表面選擇性金屬化方法和一種陶瓷有效
| 申請號: | 201210035016.7 | 申請日: | 2012-02-16 |
| 公開(公告)號: | CN103253989A | 公開(公告)日: | 2013-08-21 |
| 發明(設計)人: | 徐強;林信平;任永鵬 | 申請(專利權)人: | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類號: | C04B41/88 | 分類號: | C04B41/88 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518118 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陶瓷 表面 選擇性 金屬化 方法 | ||
1.一種陶瓷表面選擇性金屬化方法,其特征在于,包括以下步驟:
A.將陶瓷組合物成型、燒制得到陶瓷基材;所述陶瓷組合物包括陶瓷粉體和分散于陶瓷粉體中的功能粉體;所述功能粉體選自M的鈦酸鹽化合物中的一種或多種,M為釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、鈮、鉬、锝、釕、銠、鈀、銀、鎘、鉭、鎢、錸、鋨、銥、鉑、金、銦、錫、銻、鉛、鉍、鈰、鐠、釹、钷、釤、銪、釓、鋱、鏑、鈥、鉺、銩、鐿或镥元素;陶瓷粉體選自E的鈦酸鹽化合物中的一種或多種,E為鋰、鈉、鉀、銣、銫、鈹、鎂、鈣、鍶、鋇、硼、鋁、鎵、硅、鍺、磷、砷、鈧、釔、鋯、鉿或鑭元素;
B.采用能量束輻射陶瓷基材表面的選定區域,在選定區域形成化學鍍活性中心;
C.對經過步驟B的陶瓷基材表面進行化學鍍,選定區域形成金屬層。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,M為釩、鉻、錳、鐵、鋅、鈮、鉬、锝、釕、鎘、鉭、鎢、錸、鋨、銦、錫、銻、鉛、鉍、鈰、鐠、釹、钷、釤、銪、釓、鋱、鏑、鈥、鉺、銩、鐿或镥元素。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其特征在于,功能粉體選自FeTiO3、Mn(TiO3)2、PbTiO3、V(TiO3)2、Cr2(TiO3)3、ZnTiO3、Nb2(TiO3)5中的一種或多種。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,E為鎂、鈣、鋇、鋁或鍶。
5.根據權利要求1或4所述的方法,其特征在于,陶瓷粉體選自MgTiO3、CaTiO3、BaTiO3、Al2(TiO3)3、Ba0.?45?Sr0.?55?TiO3中的一種或多種。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,以陶瓷組合物的總質量為基準,陶瓷粉體的含量為70-99.998wt%,功能粉體的含量為0.002-30wt%。
7.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,以陶瓷組合物的總質量為基準,陶瓷粉體的含量為90-99.998wt%,功能粉體的含量為0.002-10wt%。
8.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,以陶瓷組合物的總質量為基準,陶瓷粉體的含量為98-99.9?95wt%,功能粉體的含量為0.005-2wt%。
9.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,陶瓷組合物的燒制在真空、空氣、氧氣氣氛或惰性氣氛中進行。
10.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,還包括在B步驟之前對陶瓷基材進行化學粗化的步驟。
11.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述能量束為激光、電子束或離子束;激光輻射的條件包括:激光波長為200-3000nm,功率為5-3000W;電子束輻射的功率密度為101-1011W/cm2;離子束輻射的離子束能量為101-106eV。
12.根據權利要求11所述的方法,其特征在于,激光輻射的條件還包括:頻率為0.1-200KHz,激光走線速度為0.01-50000mm/s,填充間距0.01mm-5mm。
13.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,還包括選定區域形成有金屬層的陶瓷基材整體在真空或惰性氣氛中進行退火處理的步驟。
14.一種陶瓷,其特征在于,所述陶瓷包括陶瓷基材和陶瓷基材表面選定區域的金屬層;所述陶瓷由權利要求1-13任一項所述的方法得到。
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