[發明專利]去除水轉印膜層溶液及其制備方法無效
| 申請號: | 201210034773.2 | 申請日: | 2012-02-16 |
| 公開(公告)號: | CN103254675A | 公開(公告)日: | 2013-08-21 |
| 發明(設計)人: | 吳仙強;劉智偉 | 申請(專利權)人: | 漢達精密電子(昆山)有限公司 |
| 主分類號: | C09D9/00 | 分類號: | C09D9/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 去除 水轉印膜層 溶液 及其 制備 方法 | ||
【技術領域】
本發明涉及一種溶液及其制備方法,具體涉及一種能夠去除水轉印膜層溶液及其制備方法。
【背景技術】
隨著現代人對電子產品的個性化需求日益劇增,對電子設備的外觀多樣化需求也越來越多。因此,在生產電子產品時,為了達到多彩圖案的效果,經常采用水轉印技術達到此效果。
水轉印技術為使用一種容易溶解于水中的水性薄膜來承載圖文。由于水性薄膜張力極好,很容易纏繞于產品表面形成圖文層,然后通過改變薄膜上面的圖文形成,使產品的裝飾變得多彩。因此,水轉印技術被廣泛應用于電子、汽車等消費領域中。
水轉印膜層的附著載體為介質漆膜層,介質漆膜層通常由丙烯酸、聚氨酯類或乙烯聚合類樹脂構成,噴涂在工件表面形成膜層,起到連接兩類物質的附著作用。水轉印膜層通常是以聚乙烯醇為載體,搭配有機顏料、硝酸纖維素及醇酸樹脂等物質構成水性膜層。然而,若遇到水轉印膜層存在不良,在確保介質漆膜層不受到損傷的情況下,目前無有效去除水轉印膜層的辦法及溶液。
有鑒于此,實有必要提供一種去除水轉印膜層溶液,該水轉印膜層溶液能在介質漆膜層不受到損傷的情況下將不良水轉印膜層有效去除。
【發明內容】
鑒于以上問題,本發明的目的是提供一種去除水轉印膜層溶液及其制備方法,從而在不損傷介質漆膜層的情況下,將不良的水轉印膜層有效去除。
為了達到上述目的,本發明的去除水轉印膜層溶液,按體積份數表示包括以下組分:
醋酸乙酯????45~55份;
無水乙醇????35~45份;
雙氧水??????8~12份。
特別地,上述去除水轉印膜層溶液,按體積份數表示包括以下組分:
醋酸乙酯????50份;
無水乙醇????40份;
雙氧水??????10份。
特別地,上述去除水轉印膜層溶液,按體積份數表示包括以下組分:
醋酸乙酯????48份;
無水乙醇????42份;
雙氧水????10份。
另外,本發明還提供一種去除水轉印膜層溶液的制備方法,其包括以下步驟:
(1)提供一燒杯、一量杯及一玻璃棒;
(2)按體積份數計算提供如下原材料:醋酸乙酯45~55份、無水乙醇35~45份及雙氧水8~12份;
(3)使用量杯量取體積份數為35~45份的無水乙醇,倒入燒杯中,然后使用量杯量取體積份數為45~55份的醋酸乙酯,緩慢倒入燒杯中,并使用玻璃棒不斷攪拌,再使用量杯量取體積份數為8~12份的雙氧水,緩慢倒入燒杯中,并使用玻璃棒不斷攪拌;
(4)將上述配置好的溶液密封保存備用。
相較于現有技術,本發明的去除水轉印膜層溶液及制備方法,在不損傷介質漆膜層的情況下,能夠將載體為聚乙烯醇的不良水轉印膜層有效去除。
【具體實施方式】
為對本發明的目的,方法步驟及功能有進一步的了解,現結合實施例詳細說明如下:
以下實施例中所采用的原材料如下:
醋酸乙酯為無色澄清液體,其國標編號為32127,CAS號為141-78-6;
無水乙醇為無色液體,其國標編號為32061,CAS號為64-17-5;
雙氧水為無色透明液體,其國標編號為51001,CAS號為7722-84-1。
實施例1
本實施例中,去除水轉印膜層溶液,按體積份數表示包括以下組分:
醋酸乙酯????50份;
無水乙醇????40份;
雙氧水??????10份。
本實施例中還提供一種去除水轉印膜層溶液的制備方法,其包括以下步驟:
步驟101:提供一燒杯、一量杯及一玻璃棒;
步驟102:按體積份數計算提供如下原材料:醋酸乙酯50份、無水乙醇40份及雙氧水10份;
步驟103:使用量杯量取體積份數為40份的無水乙醇,倒入燒杯中,然后使用量杯量取體積份數為50份的醋酸乙酯,緩慢倒入燒杯中,并使用玻璃棒不斷攪拌,再使用量杯量取體積份數為10份的雙氧水,緩慢倒入燒杯中,并使用玻璃棒不斷攪拌;
步驟104:將上述配置好的溶液密封保存備用。
在使用上述配制好的去除水轉印膜層溶液時,只需要使用無塵布沾取適量溶液擦拭需處理工件即可去除不良的水轉印膜層。
實施例2
本實施例中,去除水轉印膜層溶液,按體積份數表示包括以下組分:
醋酸乙酯????48份;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于漢達精密電子(昆山)有限公司,未經漢達精密電子(昆山)有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210034773.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





