[發明專利]一種丙烯酸正性光刻膠及其制備方法

無效

• 申請號: 201210033673.8
• 申請日: 2012-02-15
• 公開（公告）號: CN102608866A
• 公開（公告）日: 2012-07-25
• 發明（設計）人: 張盼;楊光;孫越
• 申請（專利權）人: 濰坊星泰克微電子材料有限公司
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;G03F7/027;G03F7/004
• 代理公司: 濰坊正信專利事務所 37216
• 代理人: 王紀辰

1.?一種丙烯酸正性光刻膠，其特征在于：所述正性光刻膠由包括以下重量百分比的原料制備而成：

聚丙烯酸樹脂???????????????????5～30wt%，??????????????

光致酸發生劑???????????????????1～20wt%，

含有多個羥基的酯???????????????5～40wt%，

丙二醇甲醚醋酸酯???????????????30～60wt%。

2.?如權利要求1所述的丙烯酸正性光刻膠，其特征在于：所述正性光刻膠由包括以下重量百分比的原料制備而成：

聚丙烯酸樹脂???????????????????5～30wt%，??????????????

光致酸發生劑???????????????????1～10wt%，

含有多個羥基的酯???????????????5～40wt%，

丙二醇甲醚醋酸酯???????????????30～60wt%。

3.?如權利要求1或2所述的丙烯酸正性光刻膠，其特征在于：所述光致酸發生劑是在紫外線的輻射下能釋放強酸的化合物。

4.?如權利要求3所述的丙烯酸正性光刻膠，其特征在于：所述光致酸發生劑為三苯基锍與三氟甲磺酸的鹽(1:1)。

5.?如權利要求1或2所述的丙烯酸正性光刻膠，其特征在于：所述含有多個羥基的酯為二季戊四醇六丙烯酸酯或二季戊四醇五丙烯酸酯。

6.?如權利要求1或2所述的丙烯酸正性光刻膠，其特征在于：所述丙烯酸正性光刻膠適用于波長為365納米、248納米、193納米或13.5納米的曝光光源。

7.?制備如權利要求6所述的丙烯酸正性光刻膠的方法，其特征在于在無塵、黃光條件下，按權利要求1或2所述的重量百分比，包括以下步驟制備：

（1）向丙二醇甲醚醋酸酯中加入含有多個羥基的酯；

（2）將步驟（1）的物質攪拌6～10個小時形成混合溶液；

（3）向所述混合溶液中加入聚丙烯酸樹脂、光致酸發生劑；

（4）將（3）得到的組合物攪拌20～30小時，得到所述丙烯酸正性光刻膠。

8.?如權利要求7所述的丙烯酸正性光刻膠的制備方法，其特征在于：所述光致酸發生劑是在紫外線的輻射下能釋放強酸的化合物。

9.?如權利要求8所述的丙烯酸正性光刻膠的制備方法，其特征在于：所述光致酸發生劑為三苯基锍與三氟甲磺酸的鹽(1:1)。

10.?如權利要求7至9任一權力要求所述的丙烯酸正性光刻膠的制備方法，其特征在于：所述含有多個羥基的酯為二季戊四醇六丙烯酸酯或二季戊四醇五丙烯酸酯。