[發明專利]光學設備、掃描方法、光刻設備和器件制造方法

有效

• 申請號: 201210033098.1
• 申請日: 2012-02-14
• 公開（公告）號: CN102681167A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: A·J·登博夫
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G02B26/10
• 分類號: G02B26/10;G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種光學設備，包括用于在所述設備的光學系統和物體之間傳遞輻射光線的物鏡，所述光學設備還包括至少一個可移動元件，所述可移動元件包括布置在所述光學系統和所述物鏡之間的反射鏡，用于傾斜和由此改變所述光線在它們穿過所述物鏡時的方向，其中所述反射鏡被限制以關于軸線傾斜，所述軸線定位成大致沿著所述物鏡的光瞳面和所述反射鏡的平面之間的相交線。

2.根據權利要求1所述的光學設備，其中所述可移動元件被安裝以便振蕩和將重復的掃描運動賦予給所述光線。

3.根據權利要求2所述的光學設備，其中所述可移動光學元件被安裝成以共振頻率振蕩。

4.根據前述權利要求中任一項所述的光學設備，所述光學設備適合于測量襯底上的標記的位置，所述光學設備包括：

所述光學系統，所述光學系統包括照射子系統和檢測子系統，所述照射子系統利用輻射斑借助于所述物鏡來照射所述標記，所述檢測子系統借助于所述物鏡檢測被所述標記衍射的輻射；

第一定位子系統，用于控制所述襯底和測量光學系統相對于彼此以第一速度的移動，以便用所述輻射斑掃描所述標記，同時檢測和處理表示所述衍射輻射的信號以計算所述標記相對于所述測量光學系統的參考框架的位置；和

所述可移動光學元件，所述可移動光學元件能夠與所述第一定位子系統同步操作，用于以第二速度相對于所述測量光學系統的參考框架移動所述輻射斑，所述第一速度和第二速度是相關聯的，使得在所述信號被檢測時所述斑以第三速度掃描所述標記，所述第三速度比所述第一速度更慢。

5.根據權利要求4所述的光學設備，其中在操作中，所述第一速度和第二速度是平行的，所述第二速度比所述第一速度慢，所述第三速度等于所述第一速度減去所述第二速度。

6.根據權利要求4或5所述的光學設備，其中所述物鏡被相對于所述測量光學系統的參考框架固定。

7.根據權利要求4、5或6所述的光學設備，其中所述光學系統包括自參考干涉儀，用于旋轉和重新組合所述衍射輻射的兩個部分。

8.根據權利要求1、2或3所述的光學設備，包括用于檢查物體的共焦顯微鏡，所述光學設備包括：

所述光學系統，包括照射子系統和檢測子系統，所述照射子系統采用輻射斑借助于所述物鏡照射物體，所述檢測子系統借助于所述物鏡檢測在所述斑輻射中的特定點處被所述物體反射的輻射；和

所述可移動光學元件，能夠操作用于沿著至少第一掃描方向掃描所述輻射斑和所述特定點，以便記錄從橫跨所述物體的點線檢測到的輻射的強度。

9.根據權利要求8所述的光學設備，還包括定位子系統，用于沿著第二掃描方向相對于彼此移動所述物體和所述物鏡，以便記錄來自橫跨所述物體的一系列點線的輻射強度。

10.一種光刻設備，所述光刻設備布置成將圖案從圖案形成裝置轉移到襯底上，所述光刻設備包括襯底臺和對準傳感器，所述襯底臺構造成保持襯底，所述對準傳感器用于測量所述襯底上的標記相對于所述光刻設備中的參考框架的位置，其中所述對準傳感器包括根據權利要求4-7中任一項所述的測量設備，其中所述光刻設備布置成參照利用所述測量設備所測量的所述襯底上的標記的位置來控制圖案到所述襯底上的轉移。

11.一種借助于物鏡采用輻射光線掃描物體的方法，所述方法包括以下步驟：將反射鏡布置在所述物鏡的之前的所述光線的路徑中和傾斜所述反射鏡以便在所述光線穿過所述物鏡時改變所述光線的方向，由此使得所述光線根據所述反射鏡的傾斜角射到所述物體的不同部分上，其中所述反射鏡被限制成關于軸線傾斜，所述軸線定位成大致沿著在所述物鏡的光瞳面和所述反射鏡的平面之間的相交線。

12.根據權利要求11所述的方法，其中所述反射鏡被安裝以便振蕩和將重復的掃描運動賦予所述光線。

13.根據權利要求12所述的方法，其中所述可移動的光學元件被安裝和驅動以便以共振頻率振蕩。

14.根據權利要求11、12或13所述的方法，其中所述掃描被執行作為測量襯底上的標記的位置的過程的一部分。

15.一種制造器件的方法，其中光刻過程被用于將圖案從圖案形成裝置轉移到襯底上，其中所述圖案到襯底上的轉移步驟參照利用根據權利要求14所述的方法所測量的襯底上的標記的位置來進行控制。