[發(fā)明專利]光刻設(shè)備和平臺(tái)系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210033005.5
• 申請(qǐng)日: 2012-02-14
• 公開（公告）號(hào): CN102707573A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J-G·C·范德圖恩;馬塞爾·K·M·博根;S·G·克羅伊斯威克;J·P·斯特瑞弗德;馬克·康斯坦丁·約翰內(nèi)斯·拜根;M·J·沃奧爾戴爾冬克
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種平臺(tái)系統(tǒng)和包括這樣的平臺(tái)系統(tǒng)的光刻設(shè)備。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上(通常應(yīng)用到所述襯底的目標(biāo)部分上)的機(jī)器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩?；蜓谀０娴膱D案形成裝置用于生成待形成在所述IC的單層上的電路圖案。可以將該圖案轉(zhuǎn)移到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個(gè)或多個(gè)管芯)上。典型地，經(jīng)由成像將所述圖案轉(zhuǎn)移到在所述襯底上設(shè)置的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。通常，單個(gè)襯底將包含連續(xù)形成圖案的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。傳統(tǒng)的光刻設(shè)備包括：所謂步進(jìn)機(jī)，在所述步進(jìn)機(jī)中，通過(guò)將整個(gè)圖案一次曝光到所述目標(biāo)部分上來(lái)輻射每一個(gè)目標(biāo)部分；以及所謂掃描器，在所述掃描器中，通過(guò)輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時(shí)沿與該方向平行或反向平行的方向同步掃描所述襯底來(lái)輻射每一個(gè)目標(biāo)部分。還可以通過(guò)將所述圖案壓印到所述襯底上，而將所述圖案從所述圖案形成裝置轉(zhuǎn)移到所述襯底上。

襯底由襯底臺(tái)保持，該襯底臺(tái)由致動(dòng)器移動(dòng)以便能夠輻射襯底的表面的連續(xù)的多個(gè)部分，例如使用步進(jìn)或掃描工序。在通常的實(shí)施方式中，致動(dòng)器包括兩個(gè)主要部分：下部(所謂的長(zhǎng)行程)和上部(所謂的短行程)，該下部負(fù)責(zé)粗定位，該上部負(fù)責(zé)精定位。為了優(yōu)化短行程的性能，應(yīng)當(dāng)將盡可能小的擾動(dòng)作用到短行程上。這意味著理想地在長(zhǎng)行程和短行程之間沒有機(jī)械或其它耦接，使得長(zhǎng)行程移動(dòng)或變形不會(huì)不利地影響短行程的性能。傳統(tǒng)的設(shè)計(jì)通過(guò)利用數(shù)量被最小化的柔性很好的連接和由6自由度(DoF)洛倫茲致動(dòng)器系統(tǒng)的致動(dòng)來(lái)最小化串?dāng)_。

發(fā)明內(nèi)容

期望提供精確的短行程定位。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供了一種平臺(tái)系統(tǒng)，包括：物體臺(tái)，構(gòu)造成保持物體；短行程致動(dòng)器元件，構(gòu)造成在第一移動(dòng)范圍上將所述物體臺(tái)移位；長(zhǎng)行程致動(dòng)器元件，構(gòu)造成在第二移動(dòng)范圍上對(duì)所述短行程致動(dòng)器元件移位，所述第二移動(dòng)范圍大于所述第一移動(dòng)范圍，所述平臺(tái)系統(tǒng)還包括氣動(dòng)補(bǔ)償裝置，所述氣動(dòng)補(bǔ)償裝置包括：傳感器，布置成測(cè)量表示所述短行程致動(dòng)器元件上的氣動(dòng)擾動(dòng)力的量；致動(dòng)器，布置成提供補(bǔ)償力，以至少部分地補(bǔ)償所述氣動(dòng)擾動(dòng)；和控制器，所述傳感器連接至所述控制器的控制器輸入，所述致動(dòng)器連接至所述控制器的控制器輸出，所述控制器布置成響應(yīng)于從傳感器接收的信號(hào)來(lái)驅(qū)動(dòng)所述致動(dòng)器。

在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，提供了一種平臺(tái)系統(tǒng)，包括：物體臺(tái)，構(gòu)造成保持物體；短行程致動(dòng)器元件，構(gòu)造成在第一移動(dòng)范圍上對(duì)所述物體臺(tái)移位；長(zhǎng)行程致動(dòng)器元件，構(gòu)造成在第二移動(dòng)范圍上對(duì)所述短行程致動(dòng)器元件移位，所述第二移動(dòng)范圍大于所述第一移動(dòng)范圍，所述平臺(tái)系統(tǒng)包括連接開口，所述連接開口將在所述長(zhǎng)行程致動(dòng)器元件和短行程致動(dòng)器元件之間的間隙連接至所述平臺(tái)系統(tǒng)的外部環(huán)境，以允許氣體經(jīng)由所述連接開口流入到所述間隙中和從所述間隙流出。

根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，提供了一種平臺(tái)系統(tǒng)，包括：物體臺(tái)，構(gòu)造成保持物體；短行程致動(dòng)器元件，構(gòu)造成在第一移動(dòng)范圍上對(duì)所述物體臺(tái)移位；長(zhǎng)行程致動(dòng)器元件，構(gòu)造成在第二移動(dòng)范圍上對(duì)所述短行程致動(dòng)器元件移位，所述第二移動(dòng)范圍大于所述第一移動(dòng)范圍；和開口，所述開口設(shè)置成穿過(guò)所述長(zhǎng)行程致動(dòng)器元件，所述開口從在所述短行程致動(dòng)器元件和長(zhǎng)行程致動(dòng)器元件之間的間隙朝向在所述長(zhǎng)行程致動(dòng)器元件和靜止結(jié)構(gòu)之間的間隙延伸。

根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，提供了一種平臺(tái)系統(tǒng)，包括：物體臺(tái)，構(gòu)造成保持物體；短行程致動(dòng)器元件，構(gòu)造成在第一移動(dòng)范圍上對(duì)所述物體臺(tái)移位；長(zhǎng)行程致動(dòng)器元件，構(gòu)造成在第二移動(dòng)范圍上對(duì)所述短行程致動(dòng)器元件移位，所述第二移動(dòng)范圍大于所述第一移動(dòng)范圍，其中所述短行程致動(dòng)器元件包括加強(qiáng)肋，所述加強(qiáng)肋設(shè)置有通孔。

根據(jù)本發(fā)明的又一實(shí)施例，提供了一種光刻設(shè)備，包括任何上述的平臺(tái)系統(tǒng)。

附圖說(shuō)明

現(xiàn)在參照隨附的示意性附圖，僅以舉例的方式，描述本發(fā)明的實(shí)施例，其中，在附圖中相應(yīng)的附圖標(biāo)記表示相應(yīng)的部件，且其中：

圖1示出可以設(shè)置本發(fā)明的一實(shí)施例的光刻設(shè)備；

圖2示出平臺(tái)系統(tǒng)的示意圖，用于顯示本發(fā)明的一實(shí)施例的總體構(gòu)思；

圖3示出根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的平臺(tái)系統(tǒng)的示意圖；

圖4示出根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的平臺(tái)系統(tǒng)的示意圖；

圖5示出根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的平臺(tái)系統(tǒng)的示意圖；

圖6示出根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的平臺(tái)系統(tǒng)的示意圖；