[發明專利]氫氟酸廢水處理方法

無效

• 申請號: 201210030922.8
• 申請日: 2012-02-06
• 公開（公告）號: CN103159342A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 黃龍云;姜東昊;李京植
• 申請（專利權）人: 諾發光電股份有限公司
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 金光軍

技術領域

本發明涉及一種對玻璃基板等進行蝕刻之后需要廢棄處理的氫氟酸的廢水處理方法，尤其涉及使用含氫氟酸的蝕刻溶液后將氟濃度從高濃度降低到低濃度而廢棄的廢水處理方法。

背景技術

制造顯示面板等時，用蝕刻溶液對玻璃基板進行蝕刻的工藝使用大量的含高濃度氫氟酸的溶液。因此，蝕刻工藝結束后進行氫氟酸濃度依然高的蝕刻溶液的廢棄處理時，需要支付另外的費用而委托給專門回收廢水的服務公司，并且如此回收的含氫氟酸的廢水與含有其他有害物質的廢水混合，會經過廢水處理工藝。在玻璃基板的細磨(slimming)工藝或者用于形成圖案的蝕刻工藝等工藝中使用后需要處理的廢水中，氟離子濃度約為10,000至25,000ppm以上，因此降低氟離子的濃度成為廢水處理的核心問題。對于單獨處理含高濃度氟離子的廢水的方法來說，尚未公開有特別好的方法。處理廢水時，對于一同包含氫氟酸等其他有害物質的綜合廢水，多次反復進行作為物理化學處理的一級處理，該一級處理為用消石灰等中和并過濾淤渣(Sludge)的過程，然后進行諸如生物化學處理或電分解處理等的二級、三級處理。

然而，目前尚未公開有采用單獨處理蝕刻工藝中產生的包含高濃度氟離子的廢水的物理化學處理方法而能夠急劇降低氟離子濃度的技術。如果能夠提供這種技術，則可以期待環保效果的同時可以期待降低廢水處理費用的效果。

發明內容

鑒于此，本發明的目的在于提供一種對于包含高濃度氟離子的蝕刻后的殘留液單獨將氟離子濃度轉換成極其低的濃度的廢水處理方法。

本發明可以提供一種氫氟酸廢水處理方法，其特征在于，包括：步驟a，在含有氟離子的廢水中加入酸和含鈣鹽；步驟b，加入氫氧化鈣；步驟c，與酸一起加入分別包含鐵鹽或鋁鹽的助凝劑；步驟d，加入高分子凝結劑。

并且，本發明可以提供一種氫氟酸廢水處理方法，其特征在于，所述步驟a以及步驟b中，攪拌1至20小時。

并且，本發明可以提供一種氫氟酸廢水處理方法，其特征在于，還包括步驟e，在所述步驟d之后，過濾生成的淤渣。

并且，本發明可以提供一種氫氟酸廢水處理方法，其特征在于，在進行過濾的所述步驟e之后，對于殘留的廢水反復進行步驟a至步驟e。

并且，本發明可以提供一種氫氟酸廢水處理方法，其特征在于，所述步驟b使廢水的pH值達到10以上。

并且，本發明可以提供一種氫氟酸廢水處理方法，其特征在于，所述步驟c的助凝劑包括：氯化亞鐵(FeCl₂)、硫酸鋁(Al₂(SO₄)₃)、硫酸亞鐵(FeSO₄)、硫酸鐵(Fe₂(SO₄)₃)、氯化鐵(FeCl₃)、聚氯化鋁(PAC，Poly?Aluminum?Chloride)、銨鋁礬(Al(NH₄)(SO₄)₂·12H₂O)、鋁酸鈉(Sodium?Aluminate)，并且經過步驟c所得的溶液根據步驟c中加入的酸而成為中性。

并且，本發明可以提供一種氫氟酸廢水處理方法，其特征在于，所述酸為鹽酸，所述含鈣鹽為硝酸鈣、氯化鈣、硫化鈣中的一種，用摩爾比計，所述酸和所述含鈣鹽的混合比為1∶1。

并且，本發明可以提供一種氫氟酸廢水處理方法，其特征在于，所述氫氟酸廢水處理方法處理廢水中氟離子濃度為10,000ppm以上的廢水。

根據本發明，通過單獨處理蝕刻工藝后殘留的廢水而可以將10,000ppm以上的氟離子濃度降低到幾百ppm水平，對于如此殘留有低濃度的氟離子的廢水，可以在后續工藝中通過多種已知的方法很容易地制備出幾ppm至幾十ppm水平的溶液，因此環保效果非常大。

并且，根據本發明，還可以大幅減輕進行蝕刻工藝的工廠的環境有害性，并且可以降低廢水處理所需的費用。

附圖說明

圖1為表示本發明的優選實施例的流程圖。

圖2a至圖2d為表示本發明的優選實施例的概略性的示意圖。

具體實施方式

以下，參照附圖詳細說明根據本發明的優選實施例。

圖1為表示本發明的實施例的整個流程的流程圖。

本發明的目的在于，去除對于玻璃基板進行細磨工藝、圖案形成工藝等工藝之后產生的蝕刻廢水中殘留的高濃度的氟離子。主要的工藝在于，利用氟離子(F^-)的沉淀反應制成淤渣，經過過濾去除。