[發(fā)明專利]圖像傳感器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210030437.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-02-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102569429A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 饒金華;張克云;吳小利 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/94 | 分類號(hào): | H01L29/94;H01L27/146 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像傳感器 | ||
1.一種圖像傳感器,其特征在于包括:光感元件、傳輸管、重置晶體管以及源跟隨晶體管;其中,在所述傳輸管和所述重置晶體管之間的浮置擴(kuò)散區(qū)層上布置了一個(gè)多晶硅層以形成MOS電容,所述MOS電容與浮置擴(kuò)散區(qū)PN結(jié)電容并聯(lián);并且,在所述傳輸管和所述重置晶體管之間的浮置擴(kuò)散區(qū)層的體內(nèi)形成了一個(gè)二氧化硅層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像傳感器,其特征在于,所述二氧化硅層是通過(guò)離子注入以及退火工藝形成的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圖像傳感器,其特征在于,所述浮置擴(kuò)散區(qū)多晶硅層中間開(kāi)孔,并且金屬接觸填充了所述孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圖像傳感器,其特征在于,所述光感元件是光電二極管。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圖像傳感器,其特征在于,所述圖像傳感器是CMOS圖像傳感器。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





