[發明專利]一種高溫高濕條件下佛甲草栽培混合基質有效
| 申請號： | 201210030116.0 | 申請日： | 2012-02-11 |
| 公開（公告）號： | CN102577915A | 公開（公告）日： | 2012-07-18 |
| 發明（設計）人： | 何一王;何茜瑩;徐玲;湯聰 | 申請（專利權）人： | 廣州市東籬環境藝術有限公司 |
| 主分類號： | A01G31/00 | 分類號： | A01G31/00 |
| 代理公司： | 廣州知友專利商標代理有限公司 44104 | 代理人： | 周克佑 |
| 地址： | 510620 廣東省廣州市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高溫 條件下 佛甲草 栽培 混合 基質 | ||
【權利要求書】：
1.一種高溫高濕條件下佛甲草栽培混合基質，其原料組成及體積配比如下：
園林廢棄物??4-8??珍珠巖??0.5-1.5??椰糠??0.5-1.5?混合均勻即得。
2.根據權利要求1所述的高溫高濕條件下佛甲草栽培混合基質，其特征是：所述的園林廢棄物是將園林上廢棄的枯枝落葉、廢棄盆花堆漚發酵后，再進行消毒粉碎程序所得。
3.根據權利要求2所述的高溫高濕條件下佛甲草栽培的混合基質，其特征是：原料組成及體積配比為：園林廢棄物：珍珠巖：椰糠=8:1:1。
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