[發明專利]多糖衍生物和含有該多糖衍生物的光學異構體用分離劑

有效

• 申請號: 201210028645.7
• 申請日: 2007-09-04
• 公開（公告）號: CN102633892A
• 公開（公告）日: 2012-08-15
• 發明（設計）人: 岡本佳男;山本智代;近藤峻右;上垣外正己
• 申請（專利權）人: 大賽璐化學工業株式會社;國立大學法人名古屋大學
• 主分類號: C08B33/00
• 分類號: C08B33/00;C08B33/02;C08B33/06;C07B57/00;B01J20/26;B01J20/29
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 徐厚才;高旭軼

1.多糖衍生物，其包括如下結構，其中結構單元中2-位上的羥基或氨基的氫原子各自被通式(II)所示的取代基取代，和如下結構，其中結構單元中3-位上的羥基或氨基的氫原子各自被通式(II)所示且不同于2-位上的取代基的取代基取代，

-CO-NH-R????(II)

其中R代表可含有雜原子的脂族或芳族烴基團且該基團可以進一步具有取代基。

2.根據權利要求1的多糖衍生物，其中：

所述結構單元各自是在其6-位上進一步具有羥基或氨基的己糖；且

該多糖衍生物進一步包含如下結構，其中各結構單元中6-位上的羥基或氨基的氫原子被通式(II)所示的取代基取代。

3.根據權利要求2的多糖衍生物，其中該多糖衍生物包含如下結構，其中結構單元中3-和6-位上的羥基或氨基的氫原子被各自如通式(II)所示的兩種取代基取代。

4.根據權利要求2的多糖衍生物，其中該多糖衍生物包含如下結構，其中結構單元中3-和6-位上的羥基或氨基的氫原子各自被通式(II)所示的一種取代基取代。

5.根據權利要求2的多糖衍生物，其中該多糖衍生物包含如下結構，其中結構單元中2-和6-位上的羥基或氨基的氫原子各自被通式(II)所示的一種取代基取代。

6.根據權利要求2的多糖衍生物，其中該多糖衍生物包含如下結構，其中結構單元中2-和6-位上的羥基或氨基的氫原子被通式(II)所示的兩種取代基取代。

7.根據權利要求1至6任一項的多糖衍生物，其中該多糖是直鏈淀粉。

8.制造多糖衍生物的方法，包括下列步驟：

用以下通式(II)所示的第一取代基將多糖各結構單元的2-位上的羥基或氨基改性；和

用以下通式(II)所示且不同于第一取代基的第二取代基將所述結構單元的3-位上的羥基或氨基改性：

-CO-NH-R????(II)

其中R代表可含有雜原子的脂族或芳族烴基團且該基團可以進一步具有取代基。

9.根據權利要求8的方法，其中：

所述結構單元各自是在其6-位上進一步具有羥基或氨基的己糖；且

該方法進一步包括在將2-位上的羥基或氨基改性后用保護基保護6-位上的羥基或氨基的步驟。

10.根據權利要求9的方法，進一步包括下列步驟：

在將3-位上的羥基或氨基改性后除去6-位上的保護基；和

用通式(I)至(III)任一項所示且不同于所述第二取代基的第三取代基將已除去保護基的6-位上的羥基或氨基改性，

-CO-R????(I)

-CO-NH-R????(II)

-R????(III)。

11.制造多糖衍生物的方法，包括：

用保護基保護多糖各結構單元的2-位上的羥基或氨基的2-位保護步驟；

將2-位已用以下通式(II)所示的第二取代基保護的結構單元的3-位上的羥基或氨基改性的3-位改性步驟；

除去3-位已改性的結構單元中2-位上的保護基的2-位脫保護步驟；和

用與第二取代基的通式相同的通式(II)所示但不同于該第二取代基的第一取代基將已除去保護基的2-位上的羥基或氨基改性的2-位改性步驟：

-CO-NH-R????(II)

其中R代表可含有雜原子的脂族或芳族烴基團且該基團可以進一步具有取代基。

12.根據權利要求11的方法，其中：

所述結構單元各自是在其6-位上進一步具有羥基或氨基的己糖；且

所述3-位改性步驟是用所述第二取代基將所述結構單元的3-和6-位上的各羥基或氨基改性的步驟。

13.根據權利要求12的方法，其中：

所述2-位脫保護步驟是除去2-位上的保護基和6-位上的第二取代基的步驟；且

所述2-位改性步驟是用所述第一取代基將結構單元的2-和6-位上的各羥基或氨基改性的步驟。