[發(fā)明專利]伽馬射線檢測(cè)器線性校準(zhǔn)

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210028490.7
• 申請(qǐng)日: 2012-02-02
• 公開（公告）號(hào): CN102626316A
• 公開（公告）日: 2012-08-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J-P·布尼克;Y·赫菲茨
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 通用電氣公司
• 主分類號(hào): A61B6/00
• 分類號(hào): A61B6/00;G01T1/20
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 柯廣華;朱海煜

1.一種伽馬射線檢測(cè)器系統(tǒng)(10)，包括：

閃爍體(26)，其配置成接收伽馬輻射(22)并輸出較低能量輻射(222)，所述閃爍體(26)包括配置成導(dǎo)通所輸出輻射(222)的多個(gè)分段(50)，其中所述分段(50)由在所述閃爍體(26)內(nèi)形成的物理壁體(500)定義，并配置成將所述輸出輻射(222)導(dǎo)通到圖像數(shù)據(jù)(76)中可檢測(cè)到的、表征所述檢測(cè)器系統(tǒng)(10)中的非線性的位點(diǎn)(66、78、84、86、88、90)；

鄰近所述閃爍體(26)設(shè)置的中間層(48)；以及

多個(gè)光電倍增器(28)，其鄰近所述中間層(48)設(shè)置且配置成接收所導(dǎo)通的輸出輻射(222)以及將所述輻射(222)轉(zhuǎn)換成所述圖像數(shù)據(jù)(76)。

2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)(10)，其中，所述物理壁體(500)由所述閃爍體(26)中延伸到小于所述閃爍體(26)的厚度的深度的溝槽(500)形成。

3.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)(10)，其中，所述溝槽(500)填充以粘合劑(64)。

4.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)(10)，其中，所述溝槽(500)具有所述閃爍體(26)的厚度的約10％與50％之間的深度。

5.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)(10)，其中，所述溝槽(500)在所述閃爍體(26)的、面向所述中間層(48)的一側(cè)(62)中形成。

6.如權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)(10)，其中，所述中間層(48)包括玻璃。

7.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)(10)，其中，所述分段(50)以網(wǎng)格圖案(52)形成。

8.一種用于處理伽馬射線檢測(cè)器(24)數(shù)據(jù)的方法(110)，包括：

在檢測(cè)器系統(tǒng)(10)中接收輸出輻射(22)，所述檢測(cè)器系統(tǒng)(10)包括配置成接收伽馬輻射(22)并輸出較低能量輻射(222)的閃爍體(26)、鄰近所述閃爍體(26)設(shè)置的中間層(48)、以及多個(gè)光電倍增器(28)，其中所述閃爍器(26)包括配置成導(dǎo)通所輸出輻射(222)的多個(gè)分段(50)，所述多個(gè)光電倍增器(28)鄰近所述中間層(48)設(shè)置且配置成接收所導(dǎo)通的輸出輻射(222)以及將所述輻射(222)轉(zhuǎn)換成圖像數(shù)據(jù)(76)；

基于所述圖像數(shù)據(jù)(76)，識(shí)別由所述分段(50)在所述圖像數(shù)據(jù)(76)中產(chǎn)生的、可檢測(cè)的位點(diǎn)(66、78、84、86、88、90)；以及

基于所識(shí)別的位點(diǎn)(66、78、84、86、88、90)，生成所述檢測(cè)器系統(tǒng)(10)的非線性圖(80)。

9.如權(quán)利要求8所述的方法(110)，其中，通過將所述位點(diǎn)(66、78、84、86、88、90)的位置與所述分段(50)的已知位置(66、78)或間距(68、102、104)進(jìn)行比較，來生成所述非線性圖(80)。

10.如權(quán)利要求8所述的方法(110)，其中，通過按專用校準(zhǔn)序列將所述檢測(cè)器系統(tǒng)(10)暴露于伽馬輻射(22)來生成所述非線性圖(80)。

11.如權(quán)利要求8所述的方法(110)，其中，基于關(guān)注的受檢者(14)的一系列成像序列期間獲取的圖像數(shù)據(jù)(76)生成所述非線性圖(80)。

12.如權(quán)利要求11所述的方法(110)，其中，所述關(guān)注的受檢者(14)是因臨床研究而進(jìn)行成像的患者。

13.如權(quán)利要求8所述的方法(110)，其中，所述非線性圖(80)表征每個(gè)位點(diǎn)(66、78、84、86、88、90)與相應(yīng)的位點(diǎn)(66、78、84、86、88、90)的預(yù)期位置(66、78)的二維偏移(106、108)。

14.如權(quán)利要求8所述的方法(110)，其中，通過將所述檢測(cè)器系統(tǒng)(10)暴露于基本均勻的伽馬輻射(22)來生成所述非線性圖(80)。

15.如權(quán)利要求14所述的方法(110)，其中，所述基本均勻的伽馬輻射(22)是通過將所述檢測(cè)器(24)暴露于放射性源(14、20)來產(chǎn)生的，與所述檢測(cè)器(24)中未使用吸收掩罩的一面成一定距離地放置所述放射性源(14、20)。