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[發明專利]一種防收縮PET鐳射轉移基膜及其制備方法有效

專利信息
申請號: 201210028222.5 申請日: 2012-02-09
公開(公告)號: CN102582189A 公開(公告)日: 2012-07-18
發明(設計)人: 吳培服 申請(專利權)人: 江蘇雙星彩塑新材料股份有限公司
主分類號: B32B27/36 分類號: B32B27/36;B32B27/18;B29C69/00;B29L7/00
代理公司: 暫無信息 代理人: 暫無信息
地址: 223800 江*** 國省代碼: 江蘇;32
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摘要:
搜索關鍵詞: 一種 收縮 pet 鐳射 轉移 及其 制備 方法
【說明書】:

技術領域

本發明涉及一種三層共擠雙向拉伸PET基膜及其制備方法,尤其涉及一種防收縮PET鐳射轉移基膜及其制備方法。

背景技術

近年來,國內市場對高檔鐳射轉移基膜有著很大的需求。通常將普通PET、PP原料生產的鐳射轉移基膜經壓印蒸鍍和鐳射轉移之后對被包裝的商品進行裝飾、裝潢,從而實現防偽功能。采用普通PET原料生產出來的鐳射轉移基膜,對其生產工藝和設備性能有較高的要求,并且生產出來的產品質量也不能完全滿足用戶的要求,如生產高檔煙包用的鐳射轉移膜的印刷圖案套準精度偏差要求≤0.3mm,而國內生產的PET鐳射轉移膜大部分熱收縮率一般在0.1-0.5%之間,致使產品合格率偏低,鐳射轉移膜表面會形成一些版縫,這不僅會給下游用戶后續生產加工帶來諸多不便,而且會導致煙包廢品率上升,浪費大量的原輔材料,致使生產成本增加,進而會影響到PET鐳射轉移膜產品的廣泛應用。

為了克服鐳射轉移膜存在的不足,生產出能夠滿足用戶使用要求的高檔鐳射轉移膜,本領域技術人員也做了一些研究工作:

普寧市威孚包裝材料有限公司對鐳射真空噴鋁轉移基膜進行了研究,對各層配方和工藝進行改進,通過運用PP(均聚丙烯)和COPP(共聚聚丙烯)熱融改性原理,利用現有BOPP生產線,共擠前在芯層和表層加入特定的材料(抗粘結劑、爽滑劑等),使生產的BOPP基膜既具有工藝簡單,鐳射壓制圖案清晰,方便鍍鋁的功能,又能很容易地把鐳射圖案轉移到特定卡紙上;其產品各項性能指標符合GB/T12026-2000A類的要求產品均勻一致,表面光滑細膩,制成商標圖案清晰,光澤度高,防偽效果好等。

專利號為ZL201020213104.8公開了一種定位鐳射轉移膜。該專利提供的轉移膜包括依次設置的PET面層、PET中間層和PET底層,同時它還包括底膠層和印刷層,所述底膠層設置于PET底層表面,所述印刷層設置于底膠層上,所述印刷層由彩印塊和定位線組成,所述彩印塊有多個,多個彩印塊間隔設置,每個彩印塊旁設置有定位線。該定位鐳射轉移膜,定位性好,轉印后的煙盒圖案偏差較小,美觀性強,能提高和美化卷煙包裝的視覺效果,滿足消費者的需求。

專利號為ZL200910050145.1公開了一種PET鐳射轉移膜的制造工藝,該專利技術特征是將鐳射轉移涂料涂布于PET基膜上,制備一種環保型包裝印刷鐳射防偽材料。該專利制備步驟如下:在PET轉移基膜上用網紋輥一次涂布鐳射轉移涂料形成涂層,烘干,制成預涂膜;將預涂膜進行鐳射模壓,將鐳射激光版上的干涉條紋熱壓印到預涂膜的涂層上形成信息層,制成模壓膜;對模壓膜進行鍍鋁,在信息層上形成鋁層,制成PET鐳射轉移膜;由于鐳射模壓轉移涂層具有易模壓和剝離好等功能,只需進行一次涂布,可大大提高生產效率;鍍鋁膜轉移剝離后基膜還可回收反復使用多次,可大大降低成本。

專利號為ZL200410024336.8提供了一種全息防偽聚酯基膜,該專利提供的全息防偽基膜包括兩個表面層和芯層,芯層中含有一定比例的結晶聚酯和聚酯基膜切邊料組分,其中一個表面層是全息防偽面層,另一表面層是全息防偽面層或普通膜用聚酯面層,全息防偽面層中包含有按重量百分比計10%-100%的非結晶聚酯和0-90%的添加劑載體,普通膜用聚酯面層中包含有按重量百分比計50%-90%的結晶聚酯和10%-50%的添加劑載體,所述的添加劑載體,除包含有結晶聚酯外,還包含有添加劑二氧化硅、高嶺土、磷酸鈣或硫酸鋇,其中添加劑的含量按重量計為3000ppm。這種全息防偽聚酯基膜,能夠在全息防偽面層上直接模壓全息防偽標識圖案,提高了效率,降低了生產成本,拓展了防偽產品的應用領域。

專利號為ZL201120013652.0提供了一種彩色印刷全息圖案轉移膜,其結構由下至上依次包括有基膜層、剝離層、載體層、定位全息圖案層、粘膠層和粘貼保護層;該專利所述的載體層上具有彩色印刷油墨層,可以將激光全息圖像轉移到包裝材料和裝飾物上,既能增強其視覺效果與應用效果,同時也能增強其防偽效果。

發明內容

本發明針對背景技術中的問題,提供了一種防收縮PET鐳射轉移基膜及其制備方法,目的在于:從影響基膜熱收縮原理出發,對PET原料配方進行改進,進一步降低基膜的熱收縮率,提高基膜的熱穩定性,并使制備的鐳射轉移基膜具有更好的防收縮效果。

本發明采用的技術方案為:

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