[發明專利]一種投影光學系統有效
| 申請號： | 201210027757.0 | 申請日： | 2012-02-08 |
| 公開（公告）號： | CN102566011A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發明（設計）人： | 白瑜;邢廷文;呂保斌;范真節;鄧超;張海波 | 申請（專利權）人： | 中國科學院光電技術研究所 |
| 主分類號： | G02B13/14 | 分類號： | G02B13/14;G02B13/22;G02B3/00;G02B7/02;G02B27/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251 | 代理人： | 李新華;成金玉 |
| 地址： | 610209 *** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 投影 光學系統 | ||
1.一種投影光學系統，沿其光軸方向依次包括第一透鏡單元(L1)、第二透鏡單元(L2)、第三透鏡單元(L3)、第四透鏡單元(L4)和第五透鏡單元(L5)，所述透鏡單元均處于同一光軸，其特征在于，第一透鏡單元(L1)具有負折光力，第二透鏡單元(L2)具有正折光力，第三透鏡單元(L3)具有負折光力，第四透鏡單元(L4)具有正折光力，第五透鏡單元(L5)具有正折光力，且所述透鏡均為球面。
2.根據權利要求1所述的一種投影光學系統，其特征在于，第一透鏡單元(L1)包括第一正透鏡(1)、第二正透鏡(2)、第一負透鏡(3)、第二負透鏡(4)、第一彎月透鏡(5)和第二彎月透鏡(6)。
3.根據權利要求1所述的一種投影光學系統，其特征在于，第二透鏡單元(L2)包括第三正透鏡(7)、第三彎月透鏡(8)、第四彎月透鏡(9)和第三負透鏡(10)。
4.根據權利要求1所述的一種投影光學系統，其特征在于，第三透鏡單元(L3)包括第四負透鏡(11)、第五負透鏡(12)、第五彎月透鏡(13)、第四正透鏡(14)和第五正透鏡(15)。
5.根據權利要求1所述的一種投影光學系統，其特征在于，第四透鏡單元(L4)包括第六彎月透鏡(16)、第六正透鏡(17)、第七正透鏡(18)和第八正透鏡(19)。
6.根據權利要求1所述的一種投影光學系統，其特征在于，第五透鏡單元(L5)包括第九正透鏡(20)、第六負透鏡(21)、第十正透鏡(22)和第十一正透鏡(23)。
7.根據權利要求1所述的一種投影光學系統，其特征在于，第一透鏡單元(L1)、第二透鏡單元(L2)、第三透鏡單元(L3)、第四透鏡單元(L4)和第五透鏡單元(L5)內的透鏡都是單片鏡，用透鏡外框上的機械組件固定各個透鏡之間的相對位置。
8.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于：所述的投影光學系統的照明光源是工作波長為157nm的F2準分子激光器。
9.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于：投影光學系統將掩模上的圖形縮小0.25倍后投影到硅片表面上。
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