[發明專利]光學元件及其制造方法、顯示裝置、信息輸入裝置、相片

有效

• 申請號: 201210025386.2
• 申請日: 2012-02-06
• 公開（公告）號: CN102681043A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 野村優;木曾弘之;飯田文彥
• 申請（專利權）人: 索尼公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 余剛;吳孟秋

1.一種具有防反射功能的光學元件，包括：

基體，具有表面；以及

多個結構體，在所述基體的所述表面上以等于或小于可見光的波長的細微節距排列，

其中，形成所述結構體的材料的彈性模量大于等于1MPa且小于等于1200MPa，

所述結構體的縱橫比大于等于0.6且小于等于5，以及

形成有多個所述結構體的所述基體的所述表面的動摩擦系數等于或小于0.85。

2.根據權利要求1所述的光學元件，其中，所述結構體含有有機硅和聚氨酯。

3.根據權利要求1所述的光學元件，其中，所述結構體由含有有機硅丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯的能量射線固化樹脂組合物的聚合物制成。

4.根據權利要求1所述的光學元件，形成所述基體的材料的彈性模量大于等于1MPa且小于等于3000MPa。

5.根據權利要求4所述的光學元件，其中，所述基體的厚度大于等于60μm。

6.根據權利要求1所述的光學元件，進一步包括多個所述結構體與所述基體之間的基底層，

其中，所述基底層的彈性模量大于等于1MPa且小于等于3000MPa。

7.根據權利要求6所述的光學元件，其中，所述基底層的厚度大于等于60μm。

8.根據權利要求1所述的光學元件，進一步包括多個所述結構體與所述基體之間的基底層，

其中，所述基底層和所述基體的彈性模量大于等于1MPa且小于等于3000MPa。

9.根據權利要求8所述的光學元件，其中，所述基底層和所述基體的總厚度大于等于60μm。

10.根據權利要求1所述的光學元件，其中，形成所述結構體的材料的伸長率等于或大于50％。

11.根據權利要求1所述的光學元件，其中，形成所述基體的材料的伸長率等于或大于20％。

12.根據權利要求1所述的光學元件，進一步包括形成在所述結構體上的表面處理層，

其中，所述表面處理層含有氟和硅中的至少一種，以及

形成有所述表面處理層的所述結構體的表面中的油酸的接觸角等于或大于30度。

13.根據權利要求1所述的光學元件，

其中，多個所述結構體被排列為在所述基體的所述表面上構成多行軌跡并形成六方格圖案、準六方格圖案、四方格圖案、或準四方格圖案，以及

所述結構體具有長軸方向在所述軌跡的延伸方向上的橢圓錐形或橢圓錐臺形。

14.根據權利要求1所述的光學元件，

其中，多個所述結構體被排列為在所述基體的所述表面上構成多行軌跡，以及

所述軌跡具有直線形或圓弧形。

15.根據權利要求14所述的光學元件，其中所述軌跡是曲折型的。

16.一種具有防反射功能的光學元件，包括：

多個結構體，以等于或小于可見光的波長的細微節距排列，

其中，相鄰的所述結構體的下部彼此連接，

形成所述結構體的材料的彈性模量大于等于1MPa且小于等于1200MPa，

所述結構體的縱橫比大于等于0.6且小于等于5，以及

以所述細微節距排列的多個所述結構體的表面的動摩擦系數等于或小于0.85。

17.一種顯示裝置，包括根據權利要求1至16中任一項所述的光學元件。

18.一種信息輸入裝置，包括根據權利要求1至16中任一項所述的光學元件。

19.一種相片，包括根據權利要求1至16中任一項所述的光學元件。