[發明專利]去除鍍鉻溶液中有害雜質的設備

無效

• 申請號: 201210024721.7
• 申請日: 2012-02-06
• 公開（公告）號: CN102560614A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 閆瑞景;趙鑫;梁振海;范慧陽;閆景芳;賈雅博
• 申請（專利權）人: 太原特益達科技有限公司
• 主分類號: C25D21/16
• 分類號: C25D21/16;C25D3/04;C25B9/06;C25B9/08;C25B11/02;C25B13/04
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1.一種去除鍍鉻溶液中有害雜質的設備，其特征在于，包括：多孔電解隔膜或復合多孔隔膜、陽極、陰極；所述復合多孔隔膜由兩層多孔電解隔膜中間夾一層全氟型磺酸型均相陽離子交換隔膜，成為復合多孔隔膜；所述多孔電解隔膜由50-80份剛玉、5-15份添加劑、0.2-1份粘接劑、0.1-0.5份非離子型表面活性劑、5-15份成孔劑經過球磨，混合，注模，成型，干燥，制得多孔電解隔膜。

所述陽極是鈦及鈦基氧化物或鈦合金或鉛或鉛錫合金，采用φ0.1-10mm粗細的鈦及鈦基氧化物或鈦合金或鉛或鉛錫合金屬絲制作成棱形網狀版面，棱形網狀版面再經機加工后成為蜂窩結構；

所述陰極是直徑為5-100mm的圓柱體；

所述陰極、陽極表面積比1∶2～1∶300。

2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述添加劑使用二氧化硅衍生物、硅酸鋁纖維、莫來石、四氟乙烯共聚物或聚合物、氧化鈦或石蠟、碳粉或碳酸鹽的一種或多種組合。

3.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述粘結劑使用全氟共聚物或聚合物、聚乙烯醇、陶瓷類高溫粘接劑的一種或多種。

4.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述非離子型表面活性劑選擇乙氧基化非離子型氟碳表面活性劑或全氟表面活性劑JFN-600。

5.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述的成孔劑采用CMC、硅酸鋁纖維、淀粉、納米γ-氧化鋁的一種或多種。

6.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，多孔電解隔膜或復合多孔隔膜內的陰極室里盛放20-100g/L鉻酸和0.1-2g/L硫酸溶液或磷酸或無機硫酸鹽。

7.根據權利要求1所述的裝置，其特征是：多孔電解隔膜或復合多孔隔膜外的陽極室里盛放需要凈化處理的鍍鉻溶液，包括鍍鉻溶液或塑料電鍍粗化液。