[發明專利]立方氮化鋁鈦涂層及其制造方法無效

申請號：	201210023620.8	申請日：	2012-02-03
公開（公告）號：	CN102653148A	公開（公告）日：	2012-09-05
發明（設計）人：	倪旺陽;班志剛;R·M·潘尼克;劉一雄	申請（專利權）人：	鈷碳化鎢硬質合金公司
主分類號：	B32B15/04	分類號：	B32B15/04;B32B9/04;C23C14/06
代理公司：	中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038	代理人：	李帆
地址：	美國賓***	國省代碼：	美國;US
權利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：
搜索關鍵詞：	立方氮化涂層及其制造方法
鉆瓜網技術展會專利詞庫專利權人專利榜在售專利公布日期熱門專利

【說明書】：

技術領域：

本發明涉及具有含氮化鋁鈦的硬涂層的切削刀具以及制造此類涂覆的切削刀具的方法。更具體而言，本發明涉及具有含氮化鋁鈦的硬涂層的涂覆的切削刀具，這種氮化鋁鈦具有B1立方體相的一種單一相結構和(Al_xTi_1-x)N的組成，其中x是在大約0.46摩爾到大約0.52摩爾的范圍之內。

背景技術：

眾所周知的是使用含氮化鋁鈦的硬涂層來提高切削刀具的性能。此類硬涂層的發展始于1980年代并且延續至今。在以下專利以及公開的專利申請中傳授了其中的某些發展：美國專利號7,431,988B2；7,188,463B2；7,169,485B2；7,094,479B2；7,018,726B2；6,924,454B2；6,866,921B2；6,844,069B2；6,838,151B2；6,811,581B2；6,737,178B2；6,688,817B2；6,669,747B2；6,599,062B1；6,558,749B2；6,565,957B2；6,395,379B1；6,333,099B1；6,274,249B1；6,250,855B1；6,110,571；6,071,560；6,033,734；5,712,030；5,296,016；歐洲專利號EP?1?762?637?B1；EP?1?674?597?B1；EP?1?260611?B1；EP?1?150?792?B1；EP?1?122?226?B1；EP?1?021?584?B1；EP?1?099?003?B1；EP1?087?026?B1；EP?1?038?989?B1；EP?1?017?870B1；EP?0?925?386?B1；EP?0?801?144?B1；EP?0?798?399?B1；EP?0?709353?B1；EP?0?558?061?B1；EP?0?492?059?B1；美國公開專利申請號US?2009/0098372A1；US?2009/0075114A1；US?2008/0299383A1；US?2008/02896608A1；US?2007/0148496A1；US?2007/0059558A1；US?2006/0257562A1；US?2006/0219325A1；US?2006/0154051A1；歐洲公開專利申請號EP?2?017?366?A1；EP?2?008?743?A1；EP?2?000236?A1；EP?1?801?260?A1；EP?1?683?875?A2；EP?1?616?978?A1；EP?1?616?974?A1；EP?1?470?879?A8；公開的PCT專利申請WO?2009/031958A1和WO?2008/037556A2；以及目前未決的并且與本申請具有共同所有權的美國專利申請序列號12/572,858。此外，此類硬涂層的發展一直是許多技術論文的主題，例如S.PalDey等人的“(Ti，Al)N的單層和多層耐磨涂層綜述”，材料科學與工程，A342(2003)58-79；J.Musil等人的“磁控濺射制備的超硬納米復合Ti_1-xAl_xN膜”，固體薄膜(ThinSolid?Films)，365(2000)104-109；A.等人的“Ti_1-xAl_xN涂覆的切削刀具的機械特性和機加工性能”，表面與涂層技術(Surface&?Coatings?Technology)191(2005)384-392；G.等人的“直流磁控濺射沉積生長的多晶亞穩Ti_0.5Al_0.5N合金的微結構和物理特性”，固體薄膜，191(1987)55-65；C.-T.Huang等人的“通過反應射頻磁控濺射在A2工具鋼上沉積(Ti，Al)N膜”，表面與涂層技術，71(1995)259-266；M.Arndt等人的“新AlTiN涂層在干式和高速切削中的性能”，表面涂層技術(Surface?CoatingsTechnology)，163-164(2003)674-680；R.Cremer等人的“通過組合方法優化(Ti，Al)N硬涂層”，國際無機材料雜志(InternationalJournal?of?Inorganic?Materials)，3(2001)1181-1184；T.Suzuki等人的“(Ti，Al)N膜的微結構和晶界”，表面涂層技術，107(1998)41-47；J.L.Endrino等人的“用于機加工奧氏體不銹鋼的硬AlTiN、AlCrN?PVD涂層”，表面涂層技術，200(2006)6840-6845；W.-D.Münz的“氮化鈦鋁膜：TiN涂層的一種新型替代物”，真空科學技術雜志(J.Vacuum?Science?Technology)，A4(6)(1986)2717-2725；M.Zhou等人的“射頻等離子體輔助磁控濺射制備的Ti-Al-N薄膜的相變和特性”，固體薄膜，339(1999)203-208；Y.Tanaka等人的“陰極電弧離子鍍方法制備的用于切削刀具的(Ti_1-xAl_x)N涂層的特性”，真空科學技術雜志，A?10(4)(1992)1749-1756；A.等人的“電弧蒸發的高鋁含量Ti_1-xAl_xN薄膜的熱穩定性”，真空科學技術雜志，A?20(5)(2002)1815-1823；T.Ikeda等人的“陰極電弧等離子鍍方法制備的Ti-Al-N系統中的硬涂層的相形成和相表征”，固體薄膜，195(1991)99-110；以及A.Kimura等人的“具有不同Al含量的亞穩(Ti_1-xAl_x)N膜”，材料科學快報(J.of?Material?ScienceLetters)，19(2000)601-602。