[發(fā)明專利]電磁波照射裝置以及圖像形成裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210022407.5
• 申請日: 2012-02-01
• 公開（公告）號: CN102627035A
• 公開（公告）日: 2012-08-08
• 發(fā)明（設計）人: 藤澤和利;林義光
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: B41J2/21
• 分類號: B41J2/21;B41J29/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 陳海紅;段承恩

1.一種電磁波照射裝置，其特征在于，具備：

對附著于記錄介質的液滴照射電磁波的照射器；

照射控制單元，其使所述電磁波周期性地照射，使得使所述照射器照射所述電磁波的周期即照射周期的頻率變?yōu)轭A定頻率；和

期間設定單元，其將照射期間的長度除以停止期間的長度所得的期間比率設定為0.2以上且2以下，所述照射期間是在所述照射周期內使所述照射器照射所述電磁波的期間，所述停止期間是在所述照射周期內不使所述照射器照射所述電磁波的期間。

2.根據權利要求1所述的電磁波照射裝置，其特征在于，

所述期間設定單元將所述期間比率設定為0.2以上且1以下。

3.根據權利要求1所述的電磁波照射裝置，其特征在于，

所述期間設定單元將所述期間比率設定為2。

4.根據權利要求1到3中任一項所述的電磁波照射裝置，其特征在于，

所述照射控制單元，使得所述期間比率越小，越增大使所述照射器照射所述電磁波的強度。

5.根據權利要求1到4中任一項所述的電磁波照射裝置，其特征在于，

所述期間設定單元，在所述記錄介質上的所述液滴的平均厚度為7.5μm的情況下，將所述期間比率設定為0.2以上且2以下。

6.根據權利要求1到5中任一項所述的電磁波照射裝置，其特征在于，

所述期間設定單元，在所述預定頻率為200Hz的情況下，將所述期間比率設定為0.2以上且2以下。

7.根據權利要求1到6中任一項所述的電磁波照射裝置，其特征在于，

所述期間設定單元，在接受了應該提高打印物的表面光澤度的指示的情況下，將所述期間比率設定為0.2以上且2以下；

在沒有接受所述指示的情況下，將所述期間比率設定為3以上。

8.一種電磁波照射裝置，其特征在于，具備：

對附著于記錄介質的液滴照射電磁波的照射器；

照射控制單元，其使所述電磁波周期性地照射，使得使所述照射器照射所述電磁波的周期即照射周期的頻率變?yōu)轭A定頻率；和

期間設定單元，其將照射期間的長度除以停止期間的長度所得的期間比率設定為3以上，所述照射期間是在所述照射周期內使所述照射器照射所述電磁波的期間，所述停止期間是在所述照射周期內不使所述照射器照射所述電磁波的期間。

9.一種圖像形成裝置，其特征在于，具備：

權利要求1到8中任一項所述的電磁波照射裝置；和

使所述液滴附著于所述記錄介質的液滴附著單元。