[發明專利]設置有顯影輥和厚度調節片的顯影裝置有效
| 申請號: | 201210021923.6 | 申請日: | 2012-01-31 |
| 公開(公告)號: | CN102736476A | 公開(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發明(設計)人: | 伊藤義典;栗木寬文;山崎龍也 | 申請(專利權)人: | 兄弟工業株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/08 | 分類號: | G03G15/08 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務所 31210 | 代理人: | 梅高強;崔巍 |
| 地址: | 日本國愛知縣名*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 設置 顯影 厚度 調節 裝置 | ||
1.一種顯影裝置,其特征在于,包括:
殼體,所述殼體在其中容納顯影劑;
顯影輥,所述顯影輥可旋轉地設置在所述殼體內,并且所述顯影輥具有攜帶所述顯影劑的外周表面;
厚度調節片,所述厚度調節片被構造成調節攜帶在所述外周表面上的所述顯影劑的厚度,并且具有與所述殼體面對的相對表面;所述厚度調節片進一步具有一端部和另一端部,所述一端部支撐在所述殼體上,并且所述另一端部設置有按壓構件,所述按壓構件與所述外周表面滑動接觸,所述按壓構件位于所述相對表面并且朝向所述顯影輥突出,所述按壓構件形成具有接收部分,所述接收部分在所述顯影輥的軸線方向上在其寬度方向上的端部向內凹進;和
密封構件,所述密封構件設置在所述厚度調節片和所述殼體之間,并且接觸所述接收部分的至少一部分。
2.如權利要求1所述的顯影裝置,其特征在于,其中,所述密封構件包含:
主部分,所述主部分沿著所述軸線方向延伸并且具有在所述軸線方向上的寬度方向上的端部;和
側部分,所述側部分與所述主部分整體地形成,并且從所述主部分的所述寬度方向上的端部延伸,以接觸所述接收部分的所述至少一部分。
3.如權利要求1所述的顯影裝置,其特征在于,其中,所述接收部分被形成為使得所述按壓構件在所述顯影輥的轉動方向的上游側被部分地切除。
4.如權利要求1所述的顯影裝置,其特征在于,其中,
所述接收部分具有深度側表面,所述深度側表面在所述顯影輥的旋轉方向上位于最下游側的位置;
所述按壓構件包括接觸部分,所述接觸部分構造成與所述顯影輥的所述外周表面直接滑動接觸;并且
所述深度側表面與所述接觸部分對齊。
5.如權利要求4所述的顯影裝置,其特征在于,其中,所述密封構件與所述接收部分的所述深度側表面接觸。
6.如權利要求4所述的顯影裝置,其特征在于,其中,所述接收部分包括沿著所述顯影輥的轉動方向延伸的第一側表面,并且所述深度側表面被連接到所述第一側表面在所述轉動方向上的下游端部,并且沿著所述軸線方向向外延伸。
7.如權利要求6所述的顯影裝置,其特征在于,其中,所述密封構件與所述第一側表面接觸。
8.如權利要求7所述的顯影裝置,其特征在于,其中,所述接收部分進一步包括與所述第一側表面相對的第二側表面,其中,所述密封構件被夾在所述第一側表面與所述第二側表面之間。
9.如權利要求4所述的顯影裝置,其特征在于,其中,所述深度側表面垂直于所述厚度調節片的所述相對表面延伸。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于兄弟工業株式會社,未經兄弟工業株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210021923.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:內存組態方法、內存控制器與內存儲存裝置
- 下一篇:微納熱電偶探針的制備裝置





