[發明專利]顯影裝置

無效

• 申請號: 201210020056.4
• 申請日: 2012-01-21
• 公開（公告）號: CN102621854A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發明（設計）人: 野瀨勝也;野口彰宏;深町明日菜
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03G15/08
• 分類號: G03G15/08
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 林振波

技術領域

本發明涉及一種在成像設備例如電子照相復印機或激光打印機中使用的顯影裝置。

背景技術

作為在常規成像設備中使用的顯影裝置，有一種使用顯影套筒的雙組分顯影式磁刷顯影裝置。在這種顯影裝置中，為了滿足復印機的高速化要求，通過使用如日本專利公開(JP-A)2004-21125中描述的多級磁刷顯影方法，增大了顯影裝置和顯影套筒的周速度。在多級磁刷顯影方法中，即使在顯影裝置和顯影套筒的周速度增大時，也能夠利用多個顯影套筒實現顯影，因此能夠確保必要的顯影時間，以便實現合適的成像。

此外，近年來一直需要延長顯影裝置的壽命。影響顯影裝置壽命的原因是承載和輸送雙組分顯影劑的顯影套筒表面隨時間推移而發生磨損(磨耗)。通常，對顯影套筒表面進行噴砂，以形成適度的凸起和凹陷，利用這些凸起和凹陷來增大顯影劑的輸送(供給)力，從而確保顯影劑的輸送量。然而，在噴砂時，凸起高度大的部分由于與顯影劑的摩擦而容易被強烈磨損，因此凸起和凹陷的量由于成像的持續性而減少，從而降低了顯影劑的輸送量，并因此終結了顯影裝置的壽命。

因此，正如在JP-A?2003-295599中所描述地，已經提出了一種應對措施，其中，對顯影套筒表面進行加工(處理)，使得多個凹槽(包括沿長軸方向延伸的組成部分)以預定間隔平行布置(即，開槽加工(處理))；此外，控制這些凹槽的深度、寬度和間隔，以使顯影劑的輸送量隨時間推移也保持在恒定的水平。具體地，使顯影套筒表面的凹槽深度(大約50-150μm)形成為比用普通噴砂得到的微小凸起和凹陷的深度(大約5-15μm)大得多；此外，使凹槽深度的變化程度小。因此，由于與顯影劑摩擦而導致的磨損程度變得均勻；此外，凹槽深度比用噴砂獲得的凸起和凹陷的深度大很多；因此，能夠獲得一種長壽命的顯影套筒，在該顯影套筒中，顯影劑輸送性能受磨損引起的變化很小，且該顯影套筒隨時間推移也保持穩定。

然而，在JP-A?2003-295599描述的技術中，由于在多個顯影套筒的表面上加工的凹槽的周期(循環)，形成的圖像容易產生密度不均勻。

特別地，在所謂球形調色劑或具有高表面光平滑性的調色劑(這些調色劑是用聚合法等方法生產的，以滿足近年來提高圖像質量和清晰度的要求)的情況下，顯影劑輸送量對顯影套筒表面狀態的依賴性很高。為此，在顯影套筒表面凹槽的凹陷部輸送的顯影劑量比在凹槽的凸起部(接近于鏡面)輸送的顯影劑量大得多，從而使得在形成的圖像上容易出現由于顯影劑輸送量不均勻導致的密度不均勻。

此外，特別是由于顯影劑的耐久性，在發生顯影劑劣化(例如載體上用過的調色劑，或外部添加劑與調色劑分離)的情況下，顯影調色劑在顯影過程中的電場依賴性變高。在這種情況下，與凹槽的凸起部相比，顯影套筒表面凹槽的凹陷部在感光構件和顯影套筒之間的間隙大。因此，與凸起部相比，在凹陷部的電場強度變小，從而難以進行顯影，因此容易出現密度不均勻。

發明內容

本發明的主要目的是提供一種顯影裝置，其包括多個顯影套筒，能夠隨時間推移穩定顯影劑的輸送性能，以延長顯影套筒的壽命，并能夠抑制出現密度不均勻。

根據本發明的一方面，提供一種顯影裝置，包括：多個顯影劑承載構件，每個顯影劑承載構件用于在其表面承載顯影劑，以用于使圖像承載構件上的靜電潛像顯影，其中，在所述多個顯影劑承載構件中，由顯影劑導致需要最大驅動轉矩的顯影劑承載構件具有一表面，該表面具有多個凹槽，所述多個凹槽成預定間隔地平行布置并具有沿顯影劑承載構件的軸向延伸的組成部分，并且其中，其它顯影劑承載構件具有噴砂表面。

通過參考下面結合附圖對本發明優選實施例的描述，本發明的這些和其他目的、特征以及優點將變得明顯。

附圖說明

圖1示出了第一實施例中的成像設備。

圖2(a)示出了根據第一實施例的顯影裝置，圖2(b)是第一實施例中的顯影裝置在其縱向方向上的剖視圖。

圖3(a)至(d)分別是示出了經過開槽加工(處理)的顯影套筒的形狀的示意圖。

圖4是示出了第一實施例中實驗結果的表。

圖5示出了第二實施例中的顯影裝置。

圖6是示出了第二實施例中實驗結果的表。

具體實施方式

(第一實施例)

下面參考附圖來描述根據本發明的顯影裝置和在該實施例中的成像設備。圖1示出了本發明的成像設備。