[發明專利]光學各向異性層的制造方法

有效

• 申請號: 201210019919.6
• 申請日: 2012-01-21
• 公開（公告）號: CN102621616A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發明（設計）人: 小林忠弘;落合鋼志郎
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 趙曦;金世煜

技術領域

本發明涉及光學各向異性層的制造方法。

背景技術

能夠立體地顯示圖像的立體顯示裝置具備含有多個設有互不相同的慢軸方向的光學各向異性區域的光學各向異性層，即，圖案化光學各向異性層。作為像這樣的圖案化光學各向異性層的制造方法，已知對光取向性聚合物層進行2次介由光掩膜的偏振光曝光、形成圖案化取向膜后涂布液晶組合物的方法(參照技術信息協會編，《以液晶顯示器·觸摸面板為中心的光學膜·片材技術全集》，第1版，株式會社技術信息協會，2008年9月30日，p.124-125，4.3.2通過采用了掩膜的二階段照射的圖案化)。

發明內容

本發明提供如下技術方案：

<1>一種光學各向異性層的制造方法，所述光學各向異性層由含有聚合性液晶化合物的液晶組合物形成，包含多個設有互不相同的慢軸方向的光學各向異性區域；

所述制造方法包括如下工序：

(1)將光取向性聚合物涂布于基板的光取向性聚合物層的形成工序；

(2)以滿足下述必要條件A和必要條件B的方式介由光掩模向所述光取向性聚合物層照射第一偏振光的第一照射工序：

必要條件A：待照射第一偏振光的區域中的光取向性聚合物層的吸光度滿足式(i)，

A(b)/A(a)≤0.95????(i)

[式(i)中，A(a)表示照射第一偏振光前在波長為314nm時的吸光度。A(b)表示照射第一偏振光后在波長為314nm時的吸光度。]

必要條件B：照射了第一偏振光的區域中的光取向性聚合物層的雙折射率滿足式(ii)

Δn(550)≥0.005????(ii)

[式(ii)中，Δn(550)表示在波長為550nm時的雙折射率。]

(3)照射所述第一偏振光后，不介由光掩膜地向光取向性聚合物層照射與第一偏振光振動方向不同的第二偏振光從而形成圖案化取向膜的第二照射工序；

(4)在所述圖案化取向膜上涂布所述液晶組合物從而形成涂布膜的涂布工序；

(5)將涂布膜保持在所述涂布膜所含有的液晶性成分為液晶狀態的溫度，由此形成液晶性成分取向了的膜的取向工序；以及

(6)使所述液晶性成分取向了的膜所含有的聚合性液晶化合物聚合的聚合工序。

<2>根據<1>所述的制造方法，其中，所述光取向性聚合物是能夠通過光照射形成交聯結構的聚合物。

<3>根據<1>或<2>所述的制造方法，其中，所述第一偏振光的振動方向與所述第二偏振光的振動方向形成的角度為70°～90°。

<4>根據<1>～<3>中任一項所述的制造方法，其中，所述液晶組合物是進一步含有聚合引發劑和溶劑的液晶組合物。

<5>一種顯示裝置，具備根據<1>～<4>中任一項所述的制造方法制造的光學各向異性層。

<6>一種層疊體的制造方法，所述層疊體包含光學各向異性層和基板；所述光學各向異性層由含有聚合性液晶化合物的液晶組合物形成，包含多個設有互不相同的慢軸方向的光學各向異性區域；

所述制造方法包括如下工序：

(1)將光取向性聚合物涂布于基板的光取向性聚合物層的形成工序；

(2)以滿足下述必要條件A和必要條件B的方式介由光掩模向所述光取向性聚合物層照射第一偏振光的第一照射工序：

必要條件A：待照射第一偏振光的區域中的光取向性聚合物層的吸光度滿足式(i)

A(b)/A(a)≤0.95????(i)

[式(i)中，A(a)表示照射第一偏振光前在波長為314nm時的吸光度。A(b)表示照射第一偏振光后在波長為314nm時的吸光度。]

必要條件B：照射了第一偏振光的區域中的光取向性聚合物層的雙折射率滿足式(ii)

Δn(550)≥0.005????(ii)

[式(ii)中，Δn(550)表示在波長為550nm時的雙折射率。]

(3)照射所述第一偏振光后，不介由光掩膜地向光取向性聚合物層照射與第一偏振光振動方向不同的第二偏振光從而形成圖案化取向膜的第二照射工序；

(4)在所述圖案化取向膜上涂布所述液晶組合物從而形成涂布膜的涂布工序；