[發明專利]用于化學氣相沉積工藝的噴淋頭無效
| 申請號： | 201210019415.4 | 申請日： | 2012-01-21 |
| 公開（公告）號： | CN103074601A | 公開（公告）日： | 2013-05-01 |
| 發明（設計）人： | 梁秉文;陳勇;葉芷飛 | 申請（專利權）人： | 光達光電設備科技（嘉興）有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/455 | 分類號： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 鄭瑋 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉興市*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 化學 沉積 工藝 噴淋 | ||
1.一種用于化學氣相沉積工藝的噴淋頭，其特征在于，包括：
金屬主體層，在進行化學沉積工藝時的溫度低于300攝氏度；
外表面層，位于所述金屬主體層的靠近襯底一側的表面，所述外表面層在進行化學氣相沉積工藝時的溫度高于所述金屬主體層的溫度。
2.如權利要求1所述的噴淋頭，其特征在于，所述金屬主體層中具有冷卻介質流動，該冷卻介質用于對所述金屬主體層進行冷卻，使得所述金屬主體層的溫度低于200攝氏度。
3.如權利要求1所述的噴淋頭，其特征在于，所述外表面層上設置有溫控裝置，用于控制外表面層的溫度，使得所述外表面層的靠近襯底一側的溫度范圍為300～800攝氏度。
4.如權利要求1所述的噴淋頭，其特征在于，所述外表面層的厚度范圍為10微米到5毫米。
5.如權利要求1所述的噴淋頭，其特征在于，所述外表面層材料為耐熱材質。
6.如權利要求5所述的噴淋頭，其特征在于，所述外表面層的材質為石墨、碳化硅、硅、氮化硼、碳纖維、石英中的一種或其中的組合。
7.如權利要求1所述的噴淋頭，其特征在于，所述外表面層通過機械方式與所述金屬主體層結合，使得所述外表面層可以從所述金屬主體層上移除。
8.如權利要求1所述的噴淋頭，其特征在于，所述外表面層的靠近襯底一側的表面為粗糙表面。
9.如權利要求8所述的噴淋頭，其特征在于，所述外表面層的靠近襯底一側的表面的粗糙度范圍為200納米～100微米。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
