[發明專利]二次電池及二次電池的制造方法有效
| 申請號: | 201210019188.5 | 申請日: | 2012-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN102623744A | 公開(公告)日: | 2012-08-01 |
| 發明(設計)人: | 川田義高;坂井哲男;豐田夏樹;岡田直忠;矢作進 | 申請(專利權)人: | 株式會社東芝 |
| 主分類號: | H01M10/0525 | 分類號: | H01M10/0525;H01M10/058;H01M2/04;B23K26/20 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 楊謙;胡建新 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 二次 電池 制造 方法 | ||
1.一種二次電池,其特征在于,具有:
容器,具有用于注入電解液的注液口,并收容電極體和從所述注液口注入的所述電解液;以及
封口蓋,固定于所述容器并堵塞所述注液口,
所述封口蓋具有:
焊接痕,以貫穿所述封口蓋及所述容器的深度呈環狀存在,以及
內周側熔融痕,以與所述封口蓋的厚度相當的深度在所述封口蓋中的所述焊接痕的內周側與所述焊接痕重疊地呈環狀存在。
2.根據權利要求1所述的二次電池,其特征在于,
所述封口蓋具有外周側熔融痕,該外周側熔融痕以與所述封口蓋的厚度相當的深度在所述封口蓋中的所述焊接痕的外周側與所述焊接痕重疊地呈環狀存在。
3.根據權利要求1所述的二次電池,其特征在于,
所述內周側熔融痕的深度為所述封口蓋的厚度的±20%以內的深度。
4.根據權利要求2所述的二次電池,其特征在于,
所述外周側熔融痕的深度為所述封口蓋的厚度的±20%以內的深度。
5.根據權利要求1所述的二次電池,其特征在于,
所述焊接痕形成為連續的一條線狀。
6.一種二次電池的制造方法,其特征在于,
以堵塞在注入了電解液的容器的注液口的方式在所述容器之上放置封口蓋;
以環狀對所放置的所述封口蓋照射激光從而以貫穿所述封口蓋及所述容器的深度在所述封口蓋形成焊接痕,將所述封口蓋焊接于所述容器;以環狀對所焊接的所述封口蓋照射激光,從而以與所述封口蓋的厚度相當的深度在所述封口蓋中的所述焊接痕的內周側與所述焊接痕重疊地形成內周側熔融痕。
7.根據權利要求6所述的二次電池的制造方法,其特征在于,
以環狀對進行了焊接的所述封口蓋照射激光,從而以與所述封口蓋的厚度相當的深度在所述封口蓋中的所述焊接痕的外周側與所述焊接痕重疊地形成外周側熔融痕。
8.根據權利要求6所述的二次電池的制造方法,其特征在于,
在照射所述激光時,以形成所述封口蓋的厚度的±20%以內的深度的所述內周側熔融痕的方式照射激光。
9.根據權利要求7所述的二次電池的制造方法,其特征在于,
在照射所述激光時,以形成所述封口蓋的厚度的±20%以內的深度的所述外周側熔融痕的方式照射激光。
10.根據權利要求6所述的二次電池的制造方法,其特征在于,
使用連續波激光作為所述激光。
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