[發明專利]具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續腔體制程設備

有效

• 申請號: 201210018827.6
• 申請日: 2012-01-20
• 公開（公告）號: CN103219214A
• 公開（公告）日: 2013-07-24
• 發明（設計）人: 李文杰
• 申請（專利權）人: 李文杰
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01J37/02
• 代理公司: 天津三元專利商標代理有限責任公司 12203
• 代理人: 錢凱

1.一種具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，該設備上有一腔體，適用該等離子體制程，該腔體尚包括以下組件：電極、基材載具、傳動裝置，該電極可放置于兩個位置，其第一位置使該電極與基材載具電性脫離，其第二位置使該電極與基材載具電性接合。

2.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述電極于放置于第一位置時，該基材載具可自由移進或移出該腔體，不受該電極位置的妨害。

3.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述電極放置于第一位置時，該基材載具與該傳動裝置電性連接。

4.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述電極放置于第二位置時，該基材載具與該傳動裝置電性分離。

5.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述電極與至少一個電源產生器電性連結，當該電極位于第二位置時，該基材載具經由該電極與該電源產生器或該些電源產生器電性連結。

6.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述電極位于該基材載具下方。

7.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述電極位于第一位置時，在該傳動裝置之下。

8.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述電極位于第二位置時，在該傳動裝置之上。

9.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述電極與至少一個電源供應器電性連結，當該電極位于第二位置時，該基材載具與至少一個電源供應器電性連結，該電源供應器或該些電源供應器產生電磁波，使得腔體內的氣體離子化，產生等離子體，該電源供應器或該些電源供應器能夠在等離子體產生時，監控或調整該電極上的電壓或電流。

10.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述電極與至少一個電源供應器電性連結，該電源供應器能夠在等離子體產生時，監控該電極表面的電容。

11.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述電極除與一電源供應器電性連結，尚與一匹配電路電性鏈接，該匹配電路能夠在等離子體產生時，讀出等離子體偏壓，借由控制等離子體的偏壓，達到控制制程的目的。

12.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述等離子體制程為一等離子體蝕刻制程，等離子體清潔制程，等離子體輔助化學蒸氣蒸鍍制程，濺鍍制程，物理蒸氣蒸鍍，或數個該些制程混合的制程。

13.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述等離子體制程為裝飾鍍膜制程之用。

14.根據權利要求1所述具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程設備，其特征在于，所述基材載具上尚置有絕緣材料，使其與傳動裝置以及腔體電性隔絕。

15.一種具有可監視或控制施于基材上的等離子體偏壓能力的等離子體制程，其特征在于，可實施于連續式系統制程設備上，該等離子體制程能借由讀出一位置可改變電極的偏壓，監視或調控施于基材表面的等離子體偏壓。

16.根據權利要求15所述一種具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的等離子體制程，其特征在于，所述等離子體制程為一等離子體清潔制程。

17.根據權利要求15所述一種具有控制施于基材上的等離子體偏壓能力的連續式系統等離子體制程，其特征在于，所述等離子體制程為一等離子體偏壓調整制程，適用于鍍膜工程之用。