[發(fā)明專利]多晶硅錠及其制造方法、太陽能電池有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210017945.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-01-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102797035A | 公開(公告)日: | 2012-11-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭志東;翟蕊;石鄖熙;李娟;劉文濤;彭春球 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江思博恩新材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C30B28/06 | 分類號(hào): | C30B28/06;C30B29/06;H01L31/028 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯長明 |
| 地址: | 314117 浙江省嘉興*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多晶 及其 制造 方法 太陽能電池 | ||
1.一種多晶硅錠的制造方法,其特征在于,包括:
在多晶硅錠生長爐內(nèi)的容器底部鋪設(shè)籽晶,形成籽晶層,其中,所述籽晶層的鋪設(shè)方式為:由一整塊與容器底部大小和形狀基本相同的大塊單晶籽晶鋪設(shè)而成,或由多個(gè)小塊單晶籽晶拼接而成,或由從所述多晶硅錠主體中切割下的塊狀板坯鋪設(shè)形成,所述多晶硅錠含有連續(xù)的大尺寸的單晶硅區(qū)域,所述單晶硅區(qū)域的晶體學(xué)取向與位于其下方的所述籽晶的晶體學(xué)取向相同;
將固態(tài)的硅原料裝載到所述籽晶層的上方;
對(duì)所述容器進(jìn)行加熱,熔化所述硅原料和部分所述籽晶層,以形成液體層,至少保持與所述容器底部接觸的部分籽晶層為固態(tài);
控制所述多晶硅錠生長爐內(nèi)的熱場,對(duì)所述液體層進(jìn)行結(jié)晶形成結(jié)晶層,以使固液界面向遠(yuǎn)離所述容器底部的方向移動(dòng),完成多晶硅錠的生長。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,所述籽晶層為由從所述多晶硅錠主體中切割下的多個(gè)小塊塊狀板坯拼接而成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,所述籽晶層為由從所述多晶硅錠主體中切割下的整體塊狀板坯鋪設(shè)而成。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,所述塊狀板坯上的多晶區(qū)域處切割有凹槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,所述凹槽的縱切面為V形。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,所述凹槽的縱切面為梯形。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,所述塊狀板坯為底部為具有規(guī)則形狀的多面體,上部為凸臺(tái)的結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,所述籽晶為底部為具有規(guī)則形狀的多面體,上部為凸臺(tái)的結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,所述籽晶層包括至少一種晶體學(xué)取向的單晶硅層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,形成所述籽晶層的過程具體為,采用晶體學(xué)取向相同的籽晶拼接平鋪形成所述籽晶層,所述籽晶層與所述容器底部基本平行。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,形成所述籽晶層的過程具體為:
采用具有第一晶體學(xué)取向的籽晶拼接鋪貼,覆蓋所述容器底部的部分區(qū)域,形成具有第一晶體學(xué)取向的籽晶區(qū)域;
采用具有第二晶體學(xué)取向的籽晶覆蓋所述容器底部的部分區(qū)域,形成具有第二晶體學(xué)取向的籽晶區(qū)域,所述具有第一晶體學(xué)取向的籽晶區(qū)域和所述具有第二晶體學(xué)取向的籽晶區(qū)域共同形成所述籽晶層,所述籽晶層與所述容器底部基本平行,其中,所述具有第一晶體學(xué)取向的籽晶區(qū)域被所述具有第二晶體學(xué)取向的籽晶區(qū)域包圍。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,所述籽晶層的厚度為10mm-100mm。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,第一次開始結(jié)晶時(shí),固態(tài)籽晶層的厚度為1mm-50mm。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,所述籽晶層的面積占據(jù)所述容器底部面積的50%-99%。
15.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、5~14任一項(xiàng)所述的多晶硅錠的制造方法,其特征在于,所述控制所述多晶硅錠生長爐內(nèi)的熱場,對(duì)所述液體層進(jìn)行結(jié)晶形成結(jié)晶層,以使固液界面向遠(yuǎn)離所述容器底部的方向移動(dòng),完成多晶硅錠的生長的過程具體為:
控制所述多晶硅錠生長爐內(nèi)的熱場,對(duì)所述液體層進(jìn)行結(jié)晶形成結(jié)晶層,以使固液界面向遠(yuǎn)離所述容器底部的方向移動(dòng);
所述固液界面向遠(yuǎn)離所述容器底部的方向移動(dòng)相應(yīng)距離后,進(jìn)入回熔結(jié)晶過程,至少執(zhí)行一次所述回熔結(jié)晶過程后,得到多晶硅錠;
其中,所述回熔結(jié)晶過程包括,控制所述多晶硅錠生長爐內(nèi)的熱場,對(duì)所述結(jié)晶層進(jìn)行回熔,使所述固液界面向靠近所述容器底部的方向移動(dòng),之后,控制所述多晶硅錠生長爐內(nèi)的熱場,對(duì)液體層進(jìn)行結(jié)晶,以使所述固液界面向遠(yuǎn)離所述容器底部的方向移動(dòng),所述固液界面向靠近所述容器底部的方向移動(dòng)的距離小于所述固液界面向遠(yuǎn)離所述容器底部的方向移動(dòng)的距離。
16.一種太陽能電池,采用權(quán)利要求15所述的多晶硅錠,其特征在于,包括:
晶片,所述晶片上具有晶體學(xué)取向一致的連續(xù)大尺寸的單晶硅區(qū)域;
所述晶片中的P-N結(jié);
所述晶片上的導(dǎo)電觸點(diǎn)。
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