[發明專利]高溫仿全拋釉透明熔塊及其制造方法

有效

• 申請號: 201210017676.2
• 申請日: 2012-01-19
• 公開（公告）號: CN102584345A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 蔡國楨;杜文男
• 申請（專利權）人: 星誼精密陶瓷科技（昆山）有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

技術領域

本發明涉及一種用于陶瓷釉面地磚的釉熔塊。

背景技術

陶瓷釉磚生產用釉熔塊，是陶瓷釉磚生產中，十分重要的原料。

熔塊是一種玻璃，一定的原料組成，經高溫熔融驟冷而成。具有不可溶性、穩定性等特點，經研磨后施于各種器皿和坯體上，燒制后薄層的玻璃質。熔塊釉依其特性不同分為透明熔塊釉、乳白熔塊釉、含鉛熔塊釉及無鉛熔塊釉。熔制過程中，因制造方式不同而又粒狀及片狀之外觀。因熔塊釉具有不可溶性，所以安全性高，可單獨使用，也可添加于一般生料釉中當溶劑使用。

陶瓷釉面地磚平整、光潔、花色繁多。以其華麗而不污染環境的裝飾效果成為廣泛使用的裝飾材料。然而其釉面畢竟是一層玻璃釉。硬底鞋帶入的沙子可以使釉面產生劃痕。若經過長時間磨損，甚至可以露出斑駁的胎底色。自然影響耐久的裝飾效果。由于拋光過程破壞了?；拈]孔表面，使其成為開放的孔隙，這就帶來了拋光玻化磚容易被污染的問題。同時拋釉在拋光時對于磚的平整度度要求較高。

發明內容

本發明的目的是提供一種高溫仿全拋釉透明熔塊及其制造方法，以克服現有技術存在的上述缺陷。

本發明的高溫仿全拋釉透明熔塊，由如下重量百分比的組分組成：

各個組分的百分比之和為100％

優選的，由如下重量百分比的組分組成：

本發明高溫仿拋釉透明熔塊的制備方法，包括如下步驟：

將鈉長石、滑石、二氧化鈦、石英、氧化鋅、碳酸鈣、硼酸和氧化鋁分別球磨至200目篩網余2～3％(重量)目，過篩混合，在1450～1670℃下，煅燒45～60min，即可獲得高溫仿拋釉透明熔塊；

所述氧化鋁優選納米級氧化鋁，最好是粒徑在50-300納米的氧化鋁，此時煅燒溫度為1150-1210℃。

其中：各個組分的重量百分比為：

優選的，各個組分的重量百分比為：

本發明的高溫仿拋釉透明熔塊的使用方法如下：

將所制得的熔塊與高嶺土一起球磨，然后將球磨產物施于已印好花釉的未燒釉面磚上，置入輥道窯燒制，即可得最終陶瓷釉面磚；

所述的高溫仿拋釉透明熔塊的重量用量為95％，粘土為5％；

本發明高溫仿拋釉透明熔塊平整度好、透明度高、亮度高，與普通全拋磚無明顯區別，在生產工藝上能簡化生產設備，降低生產成本。尤其是加入納米級氧化鋁，可顯著降低燒結溫度。

采用本發明的高溫仿拋釉透明熔塊制備的陶瓷釉面磚，在不需要拋光就達到拋光效果的同時，不會破壞玻化的閉氣孔表面，抗污性比拋光的要好。而且生產工藝得到簡化，降低生產成本。

具體實施方式

實施例1

配方：(重量)

制備方法：

將鈉長石、滑石、二氧化鈦、石英、氧化鋅、碳酸鈣、硼酸和氧化鋁分別球磨至200目篩網余2％(重量)目，過篩混合，在1450℃下，煅燒60min，即可獲得高溫仿拋釉透明熔塊；

其中：各個組分的重量百分比為：

檢測結果如下：

將用本專利制作且未拋光的磚與普通全拋釉拋光后的磚做比對，本專利制作的磚釉面平整度好、透明度高、亮度高，與普通全拋釉拋光后的磚無明顯區別。

平整度采用GB?11948-89進行檢測。

其他采用目測方法進行。

實施例2

配方：(重量)

制備方法：

將鈉長石、滑石、二氧化鈦、石英、氧化鋅、碳酸鈣、硼酸和氧化鋁分別球磨至200目篩網余3％(重量)目，過篩混合，在1670℃下，煅燒45min，即可獲得高溫仿拋釉透明熔塊。

其中：各個組分的重量百分比為：

采用目測方法進行檢測，結果如下：

將用本專利制作且未拋光的磚與普通全拋釉拋光后的磚做比對，本專利制作的磚釉面平整度好、透明度高、亮度高，與普通全拋釉拋光后的磚無明顯區別。

平整度采用GB?11948-89進行檢測。

其他采用目測方法進行。

實施例3

配方：(重量)

制備方法：