[發明專利]一種四質量塊線振動硅微陀螺敏感裝置有效
| 申請號: | 201210017308.8 | 申請日: | 2012-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN103217151B | 公開(公告)日: | 2016-11-30 |
| 發明(設計)人: | 鄭辛;楊軍;劉曉智;劉大俊;劉迎春;盛潔;楊軼博;章敏明;廖興才 | 申請(專利權)人: | 北京自動化控制設備研究所 |
| 主分類號: | G01C19/5712 | 分類號: | G01C19/5712 |
| 代理公司: | 核工業專利中心 11007 | 代理人: | 高尚梅 |
| 地址: | 100074 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 質量 振動 陀螺 敏感 裝置 | ||
1.一種四質量塊線振動硅微陀螺敏感裝置,包括敏感結構(10)和分別設置敏感結構(10)上下兩側的上封帽(20)、下封帽(30),其特征在于:所述的敏感結構(10)包括4個質量塊(11)。
2.如權利要求1所述的一種四質量塊線振動硅微陀螺敏感裝置,其特征在于:所述的敏感結構(10)包括4個質量塊(11)、4組支撐梁(12)、8組驅動動齒(13)、8組驅動定齒(14)、8個驅動定齒連接塊(16)、8個驅動定齒鉚接塊(15)、中心支撐點(18)、4個連接結構(17),4個質量塊(11)沿圓周方向均勻布置,每個質量塊(11)均通過一個支撐梁(12)與中心支撐點(18)連接,每個質量塊(11)的兩側均帶有驅動動齒(13),在相鄰質量塊(11)之間設置2個驅動定齒連接塊(16),該驅動定齒連接塊(16)為扇形柱體零件,在朝向相鄰的質量塊(11)一側的側壁上設置驅動定齒(14),該驅動定齒(14)通過在驅動定齒連接塊(16)的側壁上設置凸起實現,驅動定齒連接塊(16)的一端設置驅動定齒鉚接塊(15),兩個相鄰的驅動定齒鉚接塊(15)的外端設置一個連接結構(17),所有連接結構(17)均勻設置在敏感結構(10)外側,每個連接結構(17)角度范圍均跨越相臨的兩個質量塊(11)所在的角度范圍,所述的驅動動齒(13)與驅動定齒(14)交錯布置,形成變面積式驅動梳齒,質量塊(11)、支撐梁(12)、驅動動齒(13)等厚;驅動定齒(14)、驅動定齒連接塊(16)、驅動定齒鉚接塊(15)、中心支撐點(18)、?連接結構(17)等厚。
3.如權利要求2所述的一種四質量塊線振動硅微陀螺敏感裝置,其特征在于:所述的4個質量塊(11)沿圓周方向均勻布置時,相對的兩個質量塊(11)為一組,工作狀態下保持同向運動;另一對質量塊(11)為一組,工作狀態下運動方向與前一組運動方向相反。
4.如權利要求3所述的一種四質量塊線振動硅微陀螺敏感裝置,其特征在于:驅動定齒(14)的上表面高于驅動動齒(13)2~3μm;驅動定齒(14)的下表面低于驅動動齒(13)2~3μm。
5.如權利要求4所述的一種四質量塊線振動硅微陀螺敏感裝置,其特征在于:所述的上封帽(20)由上封帽器件層(20a)、上封帽絕緣層(20b)、上封帽支撐層(20c)組成,上封帽(20)中的器件層(20a)包括4個平面電極塊(21)、4個連接結構(23)、8個驅動定齒鉚接塊(22)及1個中心支撐點(24),平面電極塊(21)呈扇形,位置與敏感結構(10)上質量塊(11)一一對應;連接結構(23)呈刀形,每個連接結構(23)與平面電極塊(21)連接,其中刀柄連接刀面與平面電極塊(21),刀面位置與敏感結構(10)上的連接結構(17)相對應;驅動定齒鉚接塊(22)位置與敏感結構(10)上的驅動定齒鉚接塊(15)相對應;上封帽中心支撐點(24)位置與敏感結構(10)上的中心支撐點(18)相對應,
上封帽(20)中的絕緣層(20b)為圓片結構,上面帶有8個平面電極引線孔(25)、4個驅動引線孔(26)、1個中心支撐點引線孔(27),平面電極引線孔(25)位置與器件層(20a)上的平面電極塊?(21)相對應;驅動引線孔(26)位置與器件層(20a)上的驅動定齒鉚接塊(22)相對應;中心支撐點引線孔(27)位置與器件層(20a)上的上封帽中心支撐點(24)相對應,
上封帽(20)中的支撐層(20c)為圓型結構,上面帶有8個平面電極引線孔(25)、4個驅動引線孔(26)、1個中心支撐點引線孔(27),平面電極引線孔(25)位置與絕緣層(20b)上的平面電極引線孔(25)相對應;驅動引線孔(26)位置與絕緣層(20b)上的驅動引線孔(26)相對應;中心支撐點引線孔(27)位置與絕緣層(20b)上的中心支撐點引線孔(27)相對應。
6.如權利要求5所述的一種四質量塊線振動硅微陀螺敏感裝置,其特征在于:所述的下封帽(30)由下封帽器件層(30a)、下封帽絕緣層(30b)、下封帽支撐層(30c)組成,下封帽(30)中的器件層(30a)與上封帽(20)中的器件層(20a)相同,下封帽(30)中的器件層(30a)與上封帽(20)中的器件層(20a)關于敏感結構(10)對稱放置,下封帽(30)中絕緣層(30b)及支撐層(30c)為圓片結構。
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