[發(fā)明專利]X 射線控制裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210016267.0 | 申請日: | 2012-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN102781153A | 公開(公告)日: | 2012-11-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 神戶悟郎;巖尾快彥 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號: | H05G1/26 | 分類號: | H05G1/26 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務(wù)所 31210 | 代理人: | 肖華 |
| 地址: | 日本京都府京都*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 射線 控制 裝置 | ||
1.一種X射線控制裝置,其控制照射X射線的X射線照射單元,其特征在于,具有照射狀態(tài)檢測單元,所述照射狀態(tài)檢測單元基于所述X射線照射單元的消耗電流,檢測X射線照射的ON/OFF狀態(tài)。
2.一種X射線控制裝置,其控制照射X射線的X射線照射單元,其特征在于,具有異常檢測單元,所述異常檢測單元基于所述X射線照射單元的消耗電流,檢測X射線照射的異常。
3.如權(quán)利要求2所述的X射線控制裝置,其特征在于,將基于所述消耗電流來檢測X射線照射的ON/OFF狀態(tài)的照射狀態(tài)檢測單元兼用作所述異常檢測單元。
4.如權(quán)利要求2或3所述的X射線控制裝置,其特征在于,所述異常檢測單元基于所述消耗電流和X射線照射條件的比較來檢測所述異常。
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