[發(fā)明專利]wafer厚度及平面度的測(cè)量裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210015753.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-01-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103217115A | 公開(公告)日: | 2013-07-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魏志凌;寧軍;夏發(fā)平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昆山思拓機(jī)器有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01B11/06 | 分類號(hào): | G01B11/06;G01B11/30 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 215347 江蘇省蘇州市昆山*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | wafer 厚度 平面 測(cè)量 裝置 | ||
1.一種wafer厚度及平面度的測(cè)量裝置,其特征在于,包括龍門架(8-1)、測(cè)量平臺(tái)(2)、Wafer裝夾平臺(tái)(4)、精密測(cè)頭(6)和固定橫梁(8);在測(cè)量平臺(tái)(2)上設(shè)有直線軸Y軸(3),Wafer裝夾平臺(tái)(4)設(shè)置于直線軸Y軸(3)上,可沿直線軸Y軸(3)前后運(yùn)動(dòng),在龍門架(8-1)上設(shè)有固定橫梁(8),在固定橫梁(8)上設(shè)有直線軸X軸(7),在直線軸X軸(7)的Z軸上設(shè)有Z軸動(dòng)板,在Z軸動(dòng)板上設(shè)有精密測(cè)頭(6),精密測(cè)頭(6)可沿直線軸X軸(7)左右運(yùn)動(dòng)、沿Z軸上下運(yùn)動(dòng),精密測(cè)頭(6)正下方為Wafer裝夾平臺(tái)(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置,其特征在于,所述直線軸X軸(7)、直線軸Y軸(3)和Z軸相互垂直。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置,其特征在于,所述Wafer裝夾平臺(tái)(4)包括安裝座(9)、多孔薄纖維板(10)、定位邊條(12)和定位銷(13);所述多孔薄纖維板(10)位于安裝座(9)上方,所述定位邊條(12)位于多孔薄纖維板(10)的邊緣,所述定位銷(13)位于定位邊條(12)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的測(cè)量裝置,其特征在于,在所述邊條(12)上設(shè)有兩個(gè)定位銷(13)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的測(cè)量裝置,其特征在于,在所述多孔薄纖維板(10)正下方為氣流槽結(jié)構(gòu),通過抽真空,將多孔薄纖維板(10)和Wafer(5)一起吸附住。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的測(cè)量裝置,其特征在于,在所述測(cè)量平臺(tái)(2)的下方設(shè)有控制柜(1),用于控制所述測(cè)量裝置的工作。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的測(cè)量裝置,其特征在于,所述測(cè)量裝置的工作原理為先將厚度為A的標(biāo)準(zhǔn)塊(14)放置在Wafer裝夾平臺(tái)(4)工作面上吸附住,測(cè)量得h1值,將該值設(shè)定為零點(diǎn),再將標(biāo)準(zhǔn)(14)塊移開,將Wafer(5)放置在Wafer裝夾平臺(tái)(4)工作面上吸附住,測(cè)量得Y值,從而準(zhǔn)確得到Wafer(5)的厚度X為A-Y。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的測(cè)量裝置,其特征在于,所述測(cè)量平臺(tái)(2)的材質(zhì)為天然花崗巖。
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