[發(fā)明專利]磁記錄介質(zhì)的制造方法和磁記錄再生裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210015408.7 | 申請日： | 2012-01-18 |
| 公開（公告）號： | CN102629475A | 公開（公告）日： | 2012-08-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 石橋信一;岡田翼;山根明;茂智雄;上田學(xué);王志鵬;村上雄二 | 申請（專利權(quán)）人： | 昭和電工株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/84 | 分類號： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人： | 段承恩;陳海紅 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 記錄 介質(zhì) 制造 方法 再生 裝置 | ||
1.一種磁記錄介質(zhì)的制造方法，是具有磁分離了的磁記錄圖案的磁記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，包括：
在非磁性基板之上形成磁性層的工序；
在所述磁性層之上形成溶解層的工序；
在所述溶解層之上形成掩模層的工序；
將所述溶解層和掩模層圖案化成為與所述磁記錄圖案對應(yīng)的形狀的工序；
將所述磁性層的沒有被所述掩模層和溶解層覆蓋的地方部分性地改性或除去的工序；和
將所述溶解層利用藥劑濕式溶解，與其上的掩模層一同從所述磁性層之上除去的工序，
在形成所述溶解層的工序中，通過在所述磁性層之上涂布了將有機(jī)硅化合物溶解于有機(jī)溶劑中的涂液后，固化該涂液，從而形成所述溶解層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，所述有機(jī)硅化合物包含聚硅氧烷，所述有機(jī)溶劑包含丙二醇單甲醚或丙二醇單甲醚乙酸酯。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磁記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，所述藥劑包含異丙醇。
4.一種磁記錄再生裝置，其特征在于，具備：
采用權(quán)利要求1～3的任一項(xiàng)所述的方法制造的磁記錄介質(zhì)；
沿記錄方向驅(qū)動所述磁記錄介質(zhì)的介質(zhì)驅(qū)動部；
進(jìn)行對于所述磁記錄介質(zhì)的記錄動作和再生動作的磁頭；
使所述磁頭相對于磁記錄介質(zhì)相對移動的磁頭移動單元；和
用于進(jìn)行向所述磁頭的信號輸入和來自所述磁頭的輸出信號的再生的記錄再生信號處理單元。
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