[發明專利]磁性負電性顯影劑

有效

• 申請號: 201210013068.4
• 申請日: 2012-01-13
• 公開（公告）號: CN102566345A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 譚紅亮;湯付根;曾國威
• 申請（專利權）人: 珠海思美亞碳粉有限公司
• 主分類號: G03G9/10
• 分類號: G03G9/10;G03G9/107
• 代理公司: 深圳市順天達專利商標代理有限公司 44217
• 代理人: 高占元;張秋紅

1.一種磁性負電性顯影劑，包括基礎粉和外添加劑，其特征在于，所述外添加劑包括以下重量份數的原料：

所述添加劑A包括含氟聚合物微粉A1、二氧化硅微粉A2，所述含氟聚合物微粉A1與二氧化硅微粉A2的重量比為100∶5-20；

所述添加劑B包括磁性氧化鐵微粉、硅油、含氟聚合物微粉B1和二氧化硅微粉B2，所述的磁性氧化鐵微粉、硅油、含氟聚合物微粉B1和二氧化硅微粉B2的重量比為100∶15-25∶3-10∶10-30。

2.根據權利要求1所述的磁性負電性顯影劑，其特征在于，所述含氟聚合物微粉A1、含氟聚合物微粉B1的平均粒徑D50分別為0.1-10微米，熔點都在120-180℃之間，吸水率都小于0.1％，含水量都小于0.5％。

3.根據權利要求1所述的磁性負電性顯影劑，其特征在于，所述含氟聚合物微粉A1、含氟聚合物微粉B1分別為聚偏二氟乙烯微粉、聚四氟乙烯微粉、聚氟乙烯微粉、聚三氟乙烯微粉中的一種。

4.根據權利要求1所述的磁性負電性顯影劑，其特征在于，所述的二氧化硅微粉A2、二氧化硅微粉B2都是經疏水化表面處理劑處理過的氣相法生產的二氧化硅微粉，所述的二氧化硅微粉A2、二氧化硅微粉B2的平均原生粒徑D50都在5-30納米。

5.根據權利要求1所述的磁性負電性顯影劑，其特征在于，所述二氧化硅微粉C為經氣相法或沉淀法生產且經疏水化表面處理劑處理過的二氧化硅微粉，所述二氧化硅微粉C的平均原生粒徑D50在5-500納米。

6.根據權利要求1所述的磁性負電性顯影劑，其特征在于，所述二氧化硅微粉C為單獨一種二氧化硅微粉，或者是不同粒徑、不同的疏水化表面處理劑處理的二氧化硅微粉的混合物。

7.根據權利要求4、5或6所述的磁性負電性顯影劑，其特征在于，所述的疏水化表面處理劑為聚二甲基硅氧烷、六甲基二硅氮烷、二甲基二氯硅烷、烷基硅烷、八甲基環四硅氧烷中的一種。

8.根據權利要求7所述的磁性負電性顯影劑，其特征在于，所述的二氧化硅微粉A2、二氧化硅微粉B2分別選擇經過聚二甲基硅氧烷表面處理的氣相法二氧化硅。

9.根據權利要求1所述的磁性負電性顯影劑，其特征在于，所述的磁性氧化鐵微粉選擇矯頑力Hc為40-200Oe、飽和磁場強度σ_m為70-95emu/g、剩余磁場強度σ_r為5-30emu/g、平均粒徑D50為0.1-0.5微米、pH值為7-9、吸油量為20-40cm³/100g的磁性氧化鐵微粉。

10.根據權利要求1所述的磁性負電性顯影劑，其特征在于，所述的鈦酸鍶微粉的含水量小于0.3％，平均粒徑D50為0.1-3微米。