[發明專利]一種亞波長混合型表面等離子激元光波導

無效

• 申請號: 201210011836.2
• 申請日: 2012-01-16
• 公開（公告）號: CN102565933A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 鄭錚;卞宇生;趙欣;劉磊;蘇亞林;劉建勝
• 申請（專利權）人: 北京航空航天大學
• 主分類號: G02B6/122
• 分類號: G02B6/122
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種具備亞波長光場限制能力的混合型表面等離子激元光波導，其橫截面包括金屬基底層、位于金屬基底層上的低折射率介質層、嵌于低折射率介質層中的高折射率介質區域、位于低折射率介質層上的高折射率介質區域以及包層；其中，低折射率介質層的寬度不小于所傳輸的光信號的波長的0.1倍，高度范圍為所傳輸的光信號的波長的0.01-0.1倍，嵌于低折射率介質層中的高折射率介質區域的寬度不小于所傳輸的光信號的波長的0.08倍，且不大于低折射率介質層的寬度，高度范圍為所傳輸的光信號的波長的0.01-0.08倍，且小于低折射率介質層的高度，低折射率介質層上的高折射率介質區域的寬度范圍為所傳輸光信號的波長的0.06-0.4倍，高度范圍為所傳輸的光信號的波長的0.06-0.4倍；嵌于低折射率介質層的高折射率介質區域和位于低折射率介質層上的高折射率介質區域的材料可為相同或不同材料，且兩者的材料折射率均高于低折射率介質層以及包層的材料折射率，低折射率介質層和包層的材料可為相同材料或不同材料，低折射率介質層和包層的材料折射率的最大值與嵌于低折射率介質層的高折射率介質區域和位于低折射率介質層上的高折射率介質區域材料折射率的最小值的比值小于0.75。

2.根據權利要求1所述的光波導結構，其特征在于，所述結構中金屬基底層的材料為能產生表面等離子激元的金、銀、鋁、銅、鈦、鎳、鉻中的任何一種、或是各自的合金、或是不同金屬層復合的材料。

3.根據權利要求1所述的光波導結構，其特征在于，所述結構中嵌于低折射率介質層中的高折射率介質區域的截面的形狀為矩形、圓形、橢圓形或梯形中的任何一種。

4.根據權利要求1所述的光波導結構，其特征在于，所述結構中位于低折射率介質層上的高折射率介質區域的截面的形狀為矩形、圓形、橢圓形或梯形中的任何一種。